PVD镀膜（离子镀膜）技术的主要特点和优势—和真空蒸发镀膜真空溅射镀膜相比较，PVD离子镀膜具有如下优点：● 膜层与工件表面的结合力强，玻璃真空镀膜工厂，更加持久和耐磨● 离子的绕射性能好，能够镀形状复杂的工件● 膜层沉积速率快，生产● 可镀膜层种类广泛● 膜层性能稳定、安全性高（获得FDA认证，可植入***）。
PVD镀膜能否代替化学电镀？
在现阶段，PVD镀膜是不能取代化学电镀的，并且除了在不锈钢材料表面可直接进行PVD镀膜外，在很多其他材料（如锌合金、铜、铁等）的工件上进行PVD镀膜前，都需要先对它们进行化学电镀Cr(铬)。玻璃真空镀膜
PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜（如铝、钛、锆、铬等）、氮化物膜（TiN[钛金]、ZrN〔锆金〕、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN），以及氧化物膜（如TiO等）。
真空镀膜产品其膜面不仅亮度高，质感细腻逼真，同时制作成本较低，玻璃真空镀膜，有利于环境保护，较少受到基材材质限制的优点，被越来越多的应用在化妆品外壳的表面处理。
真空镀膜就是以磁场束缚而延长电子的运动路径，玻璃真空镀膜公司，改变电子的运动方向，提高工作气体的电离率和有效利用电子的能量。电子的归宿不仅仅是基片，真空室内壁及靶源阳极也是电子归宿，因为一般基片与真空室及阳极在同一电势。磁场与电场的交互作用(EXB drift)使单个电子轨迹呈三维螺旋状，而不是仅仅在靶面圆周运动。
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