硅片清洗 化学清洗
化学清洗是为了除去原子、离子不可见的污染，硅片刻蚀，方法较多，有溶剂萃取、酸洗（***、·王水、各种混合酸等）和等离子体法等。其中体系清洗方法效果好，环境污染小。一般方法是将硅片先用成分比为H2SO4:H2O2=5:1或4:1的酸性液清洗。清洗液的强氧化性，将有机物分解而除去；用超纯水冲洗后，再用成分比为H2O:H2O2:NH4OH=5:2:1或5:1:1或7:2:1的碱性清洗液清洗，盐城硅片，由于H2O2的氧化作用和NH4OH的络合作用，许多金属离子形成稳定的可溶性络合物而溶于水；然后使用成分比为H2O:H2O2:HCL=7:2:1或5:2:1的酸性清洗液，由于H2O2的氧化作用和盐酸的溶解，以及氯离子的络合性，许多金属生成溶于水的络离子，从而达到清洗的目的。
眼镜、钟表工业、宝石加工业：
需要清洗的产品：眼镜、眼镜架、钟表、透镜、宝石、***装饰品、手饰、各类精密零件
污染源1：涂料、真漆、清漆、润滑油、抛光剂、石墨、微尘
污染源2：尘垢、盐、手垢、染料、锈、塑料残留物
使用清洗剂1：有机性洗涤剂，醇类
使用清洗剂2：碱性洗涤剂，酸性洗涤剂，中性洗涤剂，纯水
眼镜清洗剂大部分是纯净水加表面活性剂制成的，有的眼镜清洗剂里会加一些碱性清洗液，如洗洁精等，硅片腐蚀设备，有的还添加了杀菌剂
清洗作为一种人们日常生活中的基本活动，大家已经习以为常，普遍到没有人重视．我国在20世纪80年代以前，还没有出现清洗行业的概念． 但是，近年来，随着经济的快速发展和人们生活水平的提高．清洗也越来越引起人们的关注．一方面，硅片刻蚀台，90年代以后，随着经济发展和社会进步，清洗活动范围逐步扩大，出现了大批的清洗公司．特别是近几年．
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