硅片清洗烘干
方法：湿法清洗＋去离子水冲洗＋脱水烘焙（热板150～2500C，MEMS腐蚀设备，1～2分钟，氮气保护）
目的：a、除去表面的污染物（颗粒、有机物、工艺残余、可动离子）；b、除去水蒸气，是基底表面由亲水性变为憎水性，增强表面的黏附性（对光刻胶或者是HMDS-〉二硅胺烷）。
化学清洗槽（也叫酸槽/化学槽），主要有HF，H2SO4，H2O2，HCL等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，去离子，去原子，后还有DI清洗。IPA是，MEMS刻蚀机，就是工业酒精，MEMS清洗设备，是用来clean机台或parts的，是为了减少partical的。
在对液晶玻璃进行的等离子清洗中，使用的活化气体是氧的等离子体，它能除去油性污垢和有机污染物粒子，因为氧等离子体可将有机物氧化并形成气体排出。它的问题是需要在去除粒子后加入一个除静电装置，其清洗工艺如下：
吹气－－氧等离子体－－除静电
通过干式洗净工艺后的LCD及其电极ITO，洁净度、粘结性得到大大改善相关产品：大气等离子 ， 大气等离子清洗机 ， 大气等离子表面活化 ， 大气等离子表面清洗 ， 大气等离子表面刻蚀 ， 常温常压等离子 ， 常温常压等离子设备 ， 等离子清洗 ， 等离子除尘 ， 等离子刻蚀 ， 等离子接枝 ， 等离子沉积 ，镇江MEMS， 等离子改性 ， 等
集成电路是一种微型电子器件或部件。采用一定的工艺，把一个电路中所需的晶体管、电阻、电容和电感等元件及布线互连一起，制作在一小块或几小块半导体晶片或介质基片上，然后封装在一个管壳内，成为具有所需电路功能的微型结构；其中所有元件在结构上已组成一个整体，使电子元件向着微小型化、低功耗、智能化和高可靠性方面迈进了一大步。
