微纳光刻加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，兼顾重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，紫外光刻工艺定制，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。
光刻掩膜版清洗方法
掩膜版因为称光罩，是光刻过程中的一个工具，关于掩膜版的清洗方法多样，掩膜版厂家所提供的的清洗方法是用饱和的NaOH溶液浸泡5min， 用去离子水冲洗，然后用50%泡5min，山东光刻工艺定制，用去离子水冲洗，氮气吹干。
当然也有专门的设备，一般先使用掩膜版清洗液，将掩膜版放入掩膜板清洗机边冲洗边旋转，将污染颗粒冲洗干净。之后高速旋转甩干。掩膜板清洗机可清洗3寸、4寸、5寸、6寸掩膜。
1.掩膜版RCA清洗方法
2.掩膜版UV+O?清洗方法
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接触式光刻机，***时，光刻版压在涂有光刻胶的衬底上，优点是设备简单，分辨率高，微纳光刻工艺定制，没有衍射效应，缺点是光刻版与涂有光刻胶的晶圆片直接接触，每次接触都会在晶圆片和光刻版上产生缺陷，图形光刻工艺定制，降低光刻版使用寿命，成品率低。
光刻胶是光刻工艺的材料：光刻胶又称光致抗蚀剂，它是指由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分构成的对光敏感的混合液体。
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光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开孔，以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。负胶光刻的基本流程：衬底清洗、前烘以及预处理、涂胶、软烘、***、后烘、显影、图形检查。常用的光刻机是掩模对准光刻，所以它被称为掩模对准系统。它指的是通过将硅晶片表面上的胶整平，然后将掩模上的图案转移到光刻胶，将器件或电路结构暂时“”到硅晶片上的过程。每颗芯片诞生之初，都要经过光刻机的雕刻，精度要达到头发丝的千分之一。
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山东光刻工艺定制-半导体研究所-微纳光刻工艺定制由广东省科学院半导体研究所提供。“深硅刻蚀,真空镀膜,磁控溅射,材料刻蚀,紫外光刻”选择广东省科学院半导体研究所，公司位于：广州市天河区长兴路363号，多年来，半导体研究所坚持为客户提供好的服务，联系人：曾经理。欢迎广大新老客户来电，来函，亲临指导，洽谈业务。半导体研究所期待成为您的长期合作伙伴！