偏***厂家为您介绍: 用作制***和有机合成的催化剂，还用于陶瓷、玻璃工业等 .用于冶金工业制钒铁合金钢，合成氨工业中脱碳、脱硫和催化剂。用做印染、陶瓷的着色材料，石油化工装置中设备防腐的缓蚀剂，也是制备钒化合物的原料。用作分析***、催化剂、玻璃用紫外线阻止剂和显影剂。钒触媒是一种催化剂。通过表面接触产生催化作用的催化剂，偏***报价，又称触媒或接触剂。
偏***样品试验部分
1.1 仪器与***
iCAP6300全谱直读等离子体原子发射光谱仪: Elix纯水机。
高纯V2Os、K2CO;优级纯NO3、HCI;
高纯N***并配制成浓度为1mg/mL的标准储备溶液。
1.2ICP光谱仪工作参数
射频功率775W，辅助气流速(Ar)1.5 L/min压力0.25 MPa，蠕动泵泵速60r/min，观察高度11.0mm，检测积分时间10s(波长>260nm)或10s(波长<260nm)。
1.3 试验方法
称取0.5 g偏***样品于250mL 锥形瓶，盐城偏***，以10mL 水冲洗瓶壁并分散样品，加入8mL盐酸并低温加热进行消解反应，样品大部分消解后再加入2mL加热消解完成并煮沸产生均匀大气泡，试液冷却后以水定容到100mL 容量瓶中。
1.4 校准曲线
按照偏***(V=37%，生产偏***，K=30%)的比例关系，称取高纯***和碳酸钾，以 1.3 试验方”56·
法，完全同试样消解一样进行消解处理，将制备所得纯基体***溶液作为空白校正和基体匹配打底溶液，偏***生产厂家，再加入钠标准溶液并配制成具有浓度梯度且与偏***样品溶液组成完全一致的系列基休匹配校准曲线。钠元素含量覆盖0.010%~1.0%浓度范围。
直接测定偏***中微量杂质钠，定 限与量检测范围0.010%~1.0%。试验并总结了在高钒、 度好高钾共存的复杂样品基体介质中，光谱干扰、基体 的检效应、背景噪音等影响因素所导致的正负干扰，通过采取优选分析谱线和仪器检测参数，以及同步背景校正和基体匹配相结合的技术措施，有效克服了高钒高钾基体和氙气分子谱带测定的影响。方法简单实用、操作方便快捷、干扰影响因素少、检测下限与背景等效浓度低、检测浓度含量范围宽，精密度好、准确度高，满足了偏***产品微量杂质钠的检验需要。
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