真空电镀
工艺特点工艺成本模具费用（无）单件费用（中）批量生产（中）
典型应用反射涂层；消费电子产品和隔热板的表面处理；产量范围单件到大批量皆可质量优势适合高质量，高亮和产品表面保护层生产效率速度慢，广州真空电镀，具体取决于设备内靶材存放量，通常为6小时/周期（包括喷漆工序）
真空电镀适用材料几乎所有金属、合金、及陶瓷材料。自然材料会影响真空环境，不适合真空电镀。除了自然材料以外，适合真空电镀的材料包括金属类材料、软硬塑料（ABS料、ABS+PC料、PC料等等）、复合材料、陶瓷、和玻璃等。常用于真空电镀表面处理的是铝、其次是银和铜。
PVD真空电镀是一种真空沉积工艺，近年来越来越多地被使用，真空电镀，不再被视为实验室工艺。它已经扩大规模，以合理的成本处理大型复杂的各类产品。真空电镀
真空镀膜工艺除了对基材起到保护作用外还赋予基材不同的外观效果以此来丰富人们的审美。真空电镀作为真空镀膜工艺之一被广泛应用于诸多领域，而我们化妆品外包装行业也是此工艺的应用和推广者之一。如下图所示，所采用的方式多为高温蒸发真空沉积。
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