氮化钛真空镀膜MEMS真空镀膜加工平台——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，兼顾重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。
磁控溅射镀膜可以应用在很多方面，在具体是使用过程中需要注意一些问题。首先就是电压与功率，这会之间影响到整个镀膜的效果，一般来说，提高电压能够做到提高离化率。也就是说在高压的作用下会有更多的溅射原子沉积到物体的表面，也就是说能够调整沉积刀物品表面的量。
正是因为磁控溅射镀膜机在工作状态之中应处于真空环境，并对于气体和压强进行控制，所以这两个变量对于整个镀膜的过程也是有极大的影响的。所以首先要保证运行过程中其中的空气是高纯度的，当然在追求溅射效果的时候，可以适当加入惰性气体可以提高溅射率，可以据此掌握溅射的效果。
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先来介绍一下，什么是磁控溅射镀膜机？百度百科上，关于磁控溅射镀膜机是这样解释的：磁控溅射镀膜机是一种用于材料科学领域的工艺试验仪器，是一种普适镀膜机，氮化钛真空镀膜加工厂商，目前主要用于实验室制备有机光电器件的金属电极及介电层，以及制备用于生长纳米材料的催化剂薄膜层。
这还要从这种机器的系统组成说起，磁控溅射镀膜机内部系统主要是由：真空室系统溅射室、靶及电源系统、样品台系统、真空抽气及测量系统、气路系统、控制系统、电控系统、计算机控制系统及辅助系统等组成。
除此之外，氮化钛真空镀膜外协，标准的磁控溅射镀膜机，它的技术指标也是有一个固定值的，就像是磁控溅射镀膜机的真空部分，湖南氮化钛真空镀膜，包括真空室系统溅射室、真空抽气及测量系统，对于这两部分来说，它们的极限真空度应该为：6.7×10-5Pa，系统漏率：1×10-7PaL/S。***真空的时间应该在：40分钟可达6.6×10 Pa（短时间暴露大气并充干燥氮气后开始抽气）。
不仅如此，除了技术指标之外，这些设备的尺寸指标也是有合格标准的。真空室的标准大小应该处于：圆形真空室，尺寸550× 450mm。样品台的标准尺寸应该是：尺寸为直径350mmX280mm，滚筒结构。包括磁控靶：有效溅射区为3英寸×3英寸，数量：4支，标准型永磁靶，1支，标准型强磁靶，钎焊间接水冷结构；靶直径Φ60㎜，靶内水冷。靶基距为50～90mm连续可调（手动），并有调位距离指示。
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真空镀膜是一种将待镀材料和被镀基材放置于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华并飞溅到被镀基材表面凝聚成膜的表面处理工艺，如图所示。
真空镀膜工艺可使塑料表面具有金属质感，并赋予一定的导电性能，其基材选择广泛，过程环保***，颜色相较电镀更加丰富。此工艺可分为三种类型：蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。
真空镀膜原理图
在内外饰系统中，荣威标牌嵌件是采用真空镀膜的典型零件。通过标牌嵌件背面镀的银色铝膜与淡***PMMA基材共同形成了的金色狮子华表图案。荣威标牌嵌件采用的是真空镀膜工艺中的溅射镀膜。真空镀膜典型零件及镀膜机实物图如图所示。
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