企业资质

北京赛米莱德贸易有限公司

普通会员5
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企业等级:普通会员
经营模式:生产加工
所在地区:北京 北京
联系卖家:况经理
手机号码:15201255285
公司官网:www.semild.com
企业地址:北京市北京经济技术开发区博兴九路2号院5号楼2层208
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企业概况

北京赛米莱德贸易有限公司位于北京市北京经济技术开发区,毗邻中芯国际,京东方,RFMD------等半导体、LCD工厂。在半导体,LED,TFT-LCD,太阳能光伏领域具有十年以上的进口设备代理和安装维修经验。是一家致力于LED,MEMS,光电半导体,太阳能光伏工厂及实验室所需设备、耗材的**解决方案......

赛米莱德公司-NR74g 3000PY光刻胶公司

产品编号:1000000000022614965                    更新时间:2023-02-13
价格: 来电议定
北京赛米莱德贸易有限公司

北京赛米莱德贸易有限公司

  • 主营业务:光刻胶
  • 公司官网:www.semild.com
  • 公司地址:北京市北京经济技术开发区博兴九路2号院5号楼2层208

联系人名片:

况经理 15201255285

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产品详情





光刻胶的主要技术参数

1、分辨率:区别硅片表面相邻图形特性的能力,一般用关键尺寸来衡量 分辨率。形成的关键尺寸越小,光刻胶的分辨率越好。

2、对比度:指光刻胶从***区到非***区过渡的陡度。对比度越好,形成图形的侧壁越陡峭,分辨率越好。

3、敏感度:光刻胶上产生一 个良好的图形所需一 定波长的小能量值(或小***量)。单位:焦/平方厘米或mJ/cm2.光刻胶

的敏***对于波长更短的深紫外光(DUV)、极深紫外光(EUV)等尤为重要。

4、粘滞性/黏度:衡量光刻胶流动特性的参数。粘滞性随着光刻胶中的溶剂的减少而增加;高的粘滞性会产生厚的光刻胶;越小的

粘滞性,就有越均匀的光刻胶厚度。

5、粘附性:表征光刻胶粘着于衬底的强度。光刻胶的粘附性不足会导致硅片表面的图形变形。

6、抗蚀性:光刻胶必须保持它的粘附性,NR74g 3000PY光刻胶,在后续的刻蚀I序中保护衬底表面。

7、表面张力:液体中将表面分子拉向液体主体内的分子间吸引力。光刻胶应该具有比较小的表面张力,使光刻胶具有良好的流动性和覆盖。

8、存储和传送:能量可以启动光刻胶。应该存储在密闭、低温、不透光的盒中。 同时必须规定光刻胶的闲置期限和存贮温度环境。

以上内容由赛米莱德为您提供,希望对同行业的朋友有所帮助!



光刻胶的性能

赛米莱德生产、销售光刻胶,以下信息由赛米莱德为您提供。

光刻胶产品种类多、性强,是典型的技术密集型行业。不同用途的光刻胶***光源、反应机理、制造工艺、成膜特性、加工图形线路的精度等性能要求不同,导致对于材料的感光性能、溶解性、耐蚀刻性、耐热性等要求不同。因此每一类光刻胶使用的原料在化学结构、性能上都比较特殊,要求使用不同品质等级的光刻胶***。



光刻胶相关知识

光刻开始于一种称作光刻胶的感光性液体的应用。图形能被映射到光刻胶上,然后用一个developer就能做出需要的模板图案。光刻胶溶液通常被旋转式滴入wafer。如图2.5所示,NR74g 3000PY光刻胶报价,wafer被装到一个每分钟能转几千转的转盘上。几滴光刻胶溶液就被滴到旋转中的wafer的中心,离心力把溶液甩到表面的所有地方。光刻胶溶液黏着在wafer上形成一层均匀的薄膜。多余的溶液从旋转中的wafer上被甩掉。薄膜在几秒钟之内就缩到它后期的厚度,溶剂很快就蒸发掉了,wafer上就留下了一薄层光刻胶。然后通过烘焙去掉后面剩下的溶剂并使光刻胶变硬以便后续处理。镀过膜的wafer对特定波成的光线很敏感,特别是紫外(UV)线。相对来说他们仍旧对其他波长的,NR74g 3000PY光刻胶厂家,包括红,橙和黄光不太敏感。所以大多数光刻车间有特殊的黄光系统。

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赛米莱德公司-NR74g 3000PY光刻胶公司由 北京赛米莱德贸易有限公司提供。 北京赛米莱德贸易有限公司是北京 大兴区 ,半导体材料的见证者,多年来,公司贯彻执行科学管理、创新发展、诚实守信的方针,满足客户需求。在赛米莱德***携全体员工热情欢迎各界人士垂询洽谈,共创赛米莱德更加美好的未来。

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