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干法刻蚀也可以根据被刻蚀的材料类型来分类，如刻蚀氮化***、氧化硅、氮化硅、铝***氮等材料。

ICP（感应耦合等离子）刻蚀GaN是物料溅射和化学反应相结合的复杂过程。刻蚀GaN主要使用到和三氯化硼，刻蚀过程中材料表面表面的Ga-N键在离子轰击下，此为物理溅射，产生活性的Ga和N原子，氮原子相互结合容易析出氮气，Ga原子和Cl离子生成容易挥发的G***2或者G***3。

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精密蚀刻加工的适用材料：

　　1、大多数金属都适用于光蚀刻处理，山西氧化硅材料刻蚀，常用的金属属材料有不锈钢、铝、铜、镍、钼、钨、钛等。

　　2、陶瓷适用于蚀刻表面处理。

　　3、半导体芯片可采用精密蚀刻加工产出封装盖板。

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不钢钢蚀刻加工缝隙可以做的多小是很多在咨询时常问的一个问题，不锈钢蚀刻加工缝隙的大小主要和材料厚度、材质有关，氧化硅材料刻蚀公司，下面来简单了解一下。

不锈钢蚀刻加工前有一个***显影的步骤，而***显影过程中，缝隙大小会有一定的误差，行业内通常蚀刻例如0.1mm厚的不锈钢，可以做到0.15mm的小缝隙，公式大概就是缝隙小是材料厚度的1.5-2倍。所以如果知道蚀刻的不锈钢厚度以后，自己大概就可以估算出不锈钢蚀刻缝隙小尺寸了。

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