在 IBS 过程中，各层的折射率也可以变化，这进一步提高了工艺控制水平。5 IBS 以其精度和可重复性著称，是激光光学镀膜的镀膜沉积技术。IBS的缺点是，双层镀膜工厂，成本比其他技术更高，因为在光元件中产生了更长的周期时间和应力，双层镀膜批发厂家，这可能导致变形和光学畸变。在离子束溅射 (IBS) 过程中，强电场使离子束上的离子加速到目标上，从而释放出更多的离子，在旋转的基片上沉积一层致密的薄膜
不同镀膜技术的比较 (IAD：离子辅助沉积，IBS：离子束溅射，ALD：原子层沉积)蒸发沉积在蒸发沉积过程中，真空室中的源材料通过加热或电子束轰击进行蒸发。在蒸发过程中，蒸汽冷凝到光学表面并控制加热、真空压力、基片***和旋转，使特定设计厚度的光学镀膜保持均匀。与本部分所述的其他技术相比，蒸发沉积可以容纳更大的镀膜机尺寸，双层镀膜批发商，而且通常更经济有效。
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与PVD相比，常平双层镀膜，ALD的沉积率通常较低。但ALD制备工艺可通过大批量的产能来进行弥补。Beneq P400A 经过优化，可在批量生产中以更快的生长速度沉积高保形厚膜。
基于丰富的经验和软件，Beneq可根据您的要求针对性地设计ALD膜层结构，以此获得的光学性能。
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