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真空镀膜服务MEMS真空镀膜加工平台——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，兼顾重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

磁控溅射镀膜可以应用在很多方面，在具体是使用过程中需要注意一些问题。首先就是电压与功率，这会之间影响到整个镀膜的效果，一般来说，湖南真空镀膜服务，提高电压能够做到提高离化率。也就是说在高压的作用下会有更多的溅射原子沉积到物体的表面，也就是说能够调整沉积刀物品表面的量。

正是因为磁控溅射镀膜机在工作状态之中应处于真空环境，并对于气体和压强进行控制，所以这两个变量对于整个镀膜的过程也是有极大的影响的。所以首先要保证运行过程中其中的空气是高纯度的，硅真空镀膜服务，当然在追求溅射效果的时候，氧化铪真空镀膜服务，可以适当加入惰性气体可以提高溅射率，可以据此掌握溅射的效果。

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哪些溅射靶材可用于热反射镀膜

目前汽车玻璃镀膜常用的溅射靶材有Cr、Fe、Sn、Si、Zn、Mn、Ti、Al、Ag、Ni、Ni/Cr、Cu、Ni/Cu等不同规格的溅射靶材， 如下：

铬溅射靶材

铬溅射靶材广泛应用于五金工具镀膜、装饰镀膜、平板显示器镀膜。五金涂层用于各种机械和冶金应用，例如机器人工具、车削工具、模具（铸造、冲压）。涂膜厚度一般为2~10um，要求硬度高、磨损小、耐冲击、耐热冲击、附着力强。现在，铬溅射靶材普遍应用于玻璃镀膜行业。重要的应用是汽车后视镜的制备。随着汽车后视镜的要求越来越高，很多企业已经从原来的镀铝工艺转向真空溅射镀铬工艺。

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2.3.2速度

另一个变量是速度。对于单端镀膜机，镀膜区的传动速度可以在每分钟0~600英寸大约为0 ~ 15.24米)之间选择。对于双端镀膜机，镀膜区的传动速度可以在每分钟0~ 200英寸(大约为0~ 5.08米)之间选择。在给定的溅射速率下，传动速度越低则表示沉积的膜层越厚。

2.3.3气体

后一个变量是气体。可以在三种气体中选择两种作为主气体和辅气体来进行使用。它们之间，任何两种的比率也可以进行调节。气体压强可以在1 ~ 5X 10-3torr之间进行控制。

2.3.4阴极/基片之间的关系

在曲面玻璃镀膜机中，还有一个可以调节的参数就是阴极与基片之间的距离。平板玻璃镀膜机中没有可以调节的阴极。

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