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洁净室中的温湿度控制

相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高，粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，净化工程公司，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产佳湿度范围为35-45%。对于大部分洁净空间，为了防止外界污染***，需要保持内部的压力(静压)高于外部的压力(静压)。

对于平行流洁净室《习惯上称层流洁净室，由于主要靠气流的"活塞打挤压作用排除行染，所以截面上的速度就是非常重要的指标。过去都参考美国20gB标准，采用0.45m/s.但人们也都了解到这样大速度所需要的通风量是极大的，为了节能，也都在探求降低风速的可行性。在我国，合肥净化工程，《空气洁净技术措施》和(洁净厂房设计规范)都是这样规定的，******室净化工程，垂直平行流(层流)洁净室≥0.25m/s、水平平行流(层流)洁净室≥0.35 m/s。

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1.净化工程适用于食品工业

现代人对食品安全的意识逐步增强，为了确保食品安全，实验室净化工程，微生物含量必须在合理范围内，通过食品的净化不仅提高了食品的安全性，并且改善口味以及优化加工流程。

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