微纳光刻加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，兼顾重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。
掩膜版的制造工艺是集成电路的质量的集成度的重要工序，半导体光刻定制技术，光刻掩膜版是一块石英板，它可以确定一张硅片中的工艺层所需的完整管芯阵列。掩膜版制作：首先需要在掩膜版上形成图形，一般形成图形的方法是使用电子光束，整体下来环节比较复杂。
光刻胶是一种有光敏化学作用的高分子聚合物材料，是电子束曝照图案、转移紫外***的媒介。它覆盖在基材的表面，每当紫外光、电子束照射时，光刻胶的特性就会发生改变。在显影液显影后，未***的正性光刻胶或者***的负性光刻胶这两都留在衬底表面，之后将设计的微纳结构顺利转移光刻胶上；这之后的刻蚀、沉积等工艺，会进一步将此图案转移至光刻胶下面的衬底上。
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掩模版：一块在内部刻着线路设计图的玻璃板，贵的要数十万美元。
掩膜台：承载掩模版运动的设备，运动控制精度是nm级的。
物镜：物镜由20多块镜片组成，主要作用是把掩膜版上的电路图按比例缩小，再被激光映射的硅片上，并且物镜还要补偿各种光学误差。技术难度就在于物镜的设计难度大，精度的要求高。
硅片：用硅晶制成的圆片。硅片有多种尺寸，尺寸越大，产率越高。题外话，由于硅片是圆的，所以需要在硅片上剪一个缺口来确认硅片的坐标系，根据缺口的形状不同分为两种，分别叫flat、notch。
内部封闭框架、减振器：将工作台与外部环境隔离，保持水平，减少外界振动干扰，并维持稳定的温度、压力。
光刻机跟照相机差不多，它的底片，是涂满光敏胶的硅片。电路图案经光刻机，缩微投射到底片，蚀刻掉一部分胶，露出硅面做化学处理。制造芯片，要重复几十遍这个过程。
位于光刻机中心的镜头，由20多块锅底大的镜片串联组成。镜片得高纯度透光材料+高质量抛光。***EE光刻机使用的镜片，得数万美元一块。
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光刻胶是由光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂组成。
光刻可能会出现显影不干净的异常，主要原因可能是显影时间不足、显影溶液使用周期过长，溶液溶解胶量较多、***时间不足，主要的解决方法有增加显影时间、更换新的显影液，增强溶液溶解能力、增加***时间。
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半导体光刻定制技术-天河半导体光刻定制-半导体微纳(查看)由广东省科学院半导体研究所提供。广东省科学院半导体研究所是从事“深硅刻蚀,真空镀膜,磁控溅射,材料刻蚀,紫外光刻”的企业，公司秉承“诚信经营，用心服务”的理念，为您提供更好的产品和服务。欢迎来电咨询！联系人：曾经理。