超声波清洗原理是通过换能器将高频超声波声能转换成高频机械振荡，清洗槽内的液体被每秒几万次高频机械振荡作用下，液体中形成高频声压，不断在液体中辐射传播。液体在高频交替变化作用下形成数以万计的空化泡，并在内部发生快速爆裂撞击污物表层，污物被层层***和剥离，从而达到清洗效果。
化学清洗槽（也叫酸槽/化学槽），显影清洗机，主要有HF，H2SO4，H2O2，HCL等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，去离子，去原子，后还有DI清洗。IPA是，就是工业酒精，是用来clean机台或parts的，是为了减少partical的。
清洗机的优势
工业超声波清洗机的优势如下：
减少人工：运用超声波清洗机可实现工件全自动清洗、烘干，铜陵显影，只需在工件清洗上下料端各配置一名操作员工即可，大大减少了人工清洗所需要的人员数量和清洗时间。
缩短作业时间：超声波清洗机清洗与人工清洗相比，清洗时间缩短为人工清洗的四分之一；降低劳动强度：手工清洗：清洗环境较恶劣、体力劳动繁重、复杂机械零件需需要长时间清洗超声波清洗：劳动强度低、清洗环境整洁有序、复杂零件自动1清洗。
环保节能：超声波清洗配套循环过滤系统，可实现清洗溶剂的循环过滤反复使用，对于节约水资源、清洗溶剂成本、提高企业环保形象具有重大意义。
半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，显影腐蚀机，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括***金、铜、铁、铬等，严重影响少数载流子寿命和表面电导；碱金属如钠等，引起严重漏电；颗粒污染包括硅渣、尘埃、xi菌、微生物、有机胶体纤维等，会导致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。
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