清洗机的优点
超声波清洗机是利用超声波发生器产生的的超音频电信号，通过换能器的压电效应转换成同频率的机械振荡，并以超音频机械波的形式在清洗液中辐射.由于超音频机械波传播的正压区和负压区交替作用，半导体湿法腐蚀设备，产生无数超过1000个大气压的微小气泡，形成对清洗物表面的细微局部高压轰击，使物体表面及缝隙之中的污垢迅速剥落，这就是超声波清洗机所特有的“空化效应”.人们利用这一“空化效应”把超声波清洗机广泛的应用在:
航空、航天;2铁路;3汽车、摩托车制造业;4光学器件;5液晶(lcd)制造;6电子制计算机;7微电子;8电子电器元器件;9五金冲压件;10机械的零件;11家电产品;12电镀，半导体腐蚀机，真空镀;13钟表、眼镜、珠宝;14电机，微电机;15容器类;16***器具;17***有效成份萃取;18维修清洗--各种设备，设施，交通运输车辆工具，家用电器维修中的除油，除尘，除垢清洗;印刷行业的胶辊、丝印网清洗，打印机喷头清洗，cd/vcd/dvd光盘等领域生产加工过程中或终端的除油、除蜡、粉尘，松香等污染物的清洗。
RCA清洗法：依靠溶剂、酸、表面活性剂和水，半导体清洗机，在不***晶圆表面特征的情况下通过喷射、净化、氧化、蚀刻和溶解晶片表面污染物、有机物及金属离子污染。在每次使用***后都要在超纯水（UPW）中清洗。以下是常用清洗液及作用。
苏州晶淼半导体设备有限公司精良的产品质量是我们的根本，南京半导体，超客户预期是我们的自我需求，真诚守信是我们的原则，我们的目标是提升中国湿制程设备制造水平和服务者！
半导体硅（芯）片清洗机：
该设备主要用于清除硅（芯）片表面的废屑、金属离子等物质，是硅（芯）片生产过程中重要工序。设备主要技术特点：1.可靠的控制系统；2.触摸屏控制显示 ；3.可设置和存储工艺菜单；4.高压去离子水泵5.喷头H轴Y轴调节6.在线电阻率检测水质；7.清洗后高纯氮气干燥模块；8.自动排水装置；9.对硅片***框架的安全***。
