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苏州晶淼半导体设备有限公司

普通会员4
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企业等级:普通会员
经营模式:生产加工
所在地区:江苏 苏州
联系卖家:王经理
手机号码:13771773658
公司官网:www.jmbdt.com
企业地址:苏州工业园区金海路34号
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苏州晶淼半导体设备有限公司致力于向客户提供湿法制程刻蚀设备、清洗设备、PP/PVC通风柜/厨、CDS集中供液系统一站式解决方案。我们的产品广泛应用与微电子、半导体、光伏、光通信、LED等行业及高等院校、研究所等等科技领域的生产和研发。我们的每台设备除标准化制作外,还可根据客户的工艺需求和工作环境的具......

苏州清洗机-半导体清洗机设备-苏州晶淼半导体(推荐商家)

产品编号:1000000000023020485                    更新时间:2023-02-25
价格: 来电议定
苏州晶淼半导体设备有限公司

苏州晶淼半导体设备有限公司

  • 主营业务:半导体清洗机,半导体清洗设备,半导体湿法设备
  • 公司官网:www.jmbdt.com
  • 公司地址:苏州工业园区金海路34号

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刻蚀工艺是半导体制造工艺中的关键步骤,对于器件的电学性能十分重要。其利用化 学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要的材料的过程,目标是在涂胶的硅片上正确地 掩模图形。如果刻蚀过程中出现失误,将造成难以***的硅片报废,因此必须进行严格 的工艺流程控制。

化学清洗槽(也叫酸槽/化学槽),主要有HF,,H2SO4,H2O2,HCL等酸碱液体按一定比例配置,目的是为了去除杂质,去离子,去原子,后还有DI清洗。IPA是,就是工业酒精,是用来clean机台或parts的,是为了减少partical的。




离子束刻蚀的原理是把惰性气体充入离子源放电室,并使其电离形成等离子体,然后由栅极将离子呈束状引出并加速,具有一定能量的离子束进入工作室,射向固体表面,撞击固体表面原子,使材料原子发生溅射,达到刻蚀目的,纯属物理过程。采用离子束对材料表面进行抛光,可使材料表面达到较小粗糙度。

清洗槽(也叫酸槽/化学槽),主要有HF,,H2SO4,H2O2,HCL等酸碱液体按一定比例配置,目的是为了去除杂质,去离子,去原子,后还有DI清洗。IPA是,就是工业酒精,是用来clean机台或parts的,是为了减少partical的。





我国在上世纪60年代自行研制和生产了首台计算机,其占用面积大约为100 m2以上,现在的便携式计算机只有书包大小,而将来的计算机可能只与钢笔一样大小或更小。计算机体积的这种迅速缩小而其功能越来越强大就是半导体科技发展的一个很好的佐证,其功劳主要归结于:(1)半导体芯片集成度的大幅度提高和晶圆制造(Wafer fabrication)中光刻精度的提高,使得芯片的功能日益强大而尺寸反而更小;(2)半导体封装技术的提高从而大大地提高了印刷线路板上集成电路的密集度,使得电子产品的体积大幅度地降低。

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