真空镀膜工艺MEMS真空镀膜加工平台——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，兼顾重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。
溅射靶材均匀性对大面积镀膜的影响
对于合金溅射靶材来说，往往存在材料分布不均的情况。如***靶材中铝团聚，锌铝靶材中铝偏析（铝的原子质量比锌的原子质量65少27。铝在浇注后冷却过程中会上浮，导致铝含量一侧高另一侧低）。由于熔点低，***靶中的团聚铝在溅射成膜时很容易掉渣，氮化钛真空镀膜工艺，而在喷涂过程中加入的铝量是一定的。一部分铝团聚表明其他位置的铝含量较少，影响了硅靶的热导率和电导率。所以溅射速率不一致，成膜均匀性差，靶材，靶材放电加剧。它还降低了成膜质量。靶材成分的偏析会影响溅射速率（薄膜均匀性）和薄膜成分。因此，除了控制靶材的纯度外，合金靶材的分布也很关键。
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真空镀膜技术作为一种产生特定膜层的技术，硅真空镀膜工艺，在现实生产生活中有着广泛的应用。真空镀膜技术有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。这里主要讲一下由溅射镀膜技术发展来的磁控溅射镀膜的原理及相应工艺的研究。
溅射现象于1870年开始用于镀膜技术，1930年以后由于提高了沉积速率而逐渐用于工业生产。
通常将欲沉积的材料制成板材-靶，氧化镍真空镀膜工艺，固定在阴极上。基片置于正对靶面的阳极上，距靶一定距离。系统抽至高真空后充入(10~1)帕的气体(通常为气)，在阴极和阳极间加几千伏电压，两极间即产生辉光放电。放电产生的正离子在电场作用下飞向阴极，与靶表面原子碰撞，受碰撞从靶面逸出的靶原子称为溅射原子，其能量在1至几十电子伏范围内。溅射原子在基片表面沉积成膜。
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正是因为具有这么多的优越性，磁控溅射镀膜的适用范围是很广的。为基本的建材和民用的工业中都是可以使用的，比如在房屋装修中会用的地砖等材料。不仅可以让材料更加结实耐磨，还能保持原来的质感。磁控溅射镀膜在铝合金制品中装饰中也得到了较为广泛的应用。不仅能够让铝合金保持着原本的的质感，保证铝合金的装饰效果不变，同时可以使得铝合金装饰品更加的坚固结实。
还有很多的的零配件，用磁控溅射镀膜使得零部件更加的耐用，同时更具有优良的性能。家中常用的菜刀、水果刀上也有着磁控溅射镀膜的影子，镀过膜的刀具更加的结实耐磨，即使过去了很久仍然能够保证光亮如新。还有就是在玻璃深加工的产业之中应用，生产更多更的玻璃制品，可以应用于生活的方方面面。
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