清洗安全操作规范：
(1)有机废液和无机废液要回收严格分开，放入不同密封箱里；
(2)异bing醇和去胶液的温度已经固定，不得随意更改。如确有需要，向领班汇报，等待上级批准；
(3)***和混合溶液一定要等到冷却到30°C以下才能回收；
(4)溶液配制或回收时，清洗腐蚀机，溅到操作台上的溶液一定要用水冲干净，再用氮qi吹干，碱腐蚀清洗设备，保持工作台的清洁、干净。
半导体清洗机湿式清洗制程中，主要应用项目包含晶圆清洗与湿式蚀刻两项。至于脏污的来源，腐蚀，不外乎设备本身材料产生、现场作业员或制程工程师***自身与动作的影响、化学材料或制程药剂残留或不纯度的发生，以及制程反应产生物的结果，尤其是制程反应产生物一项，更成为制程污染主要来源。
苏州晶淼半导体设备有限公司致力于向客户提供湿法制程刻蚀设备、清洗设备、pp/pvc通风柜/厨、cds***集中供液系统解决方案.
RCA清洗法 ：
人们使用的清洗方法没有可依据的标准和系统化。1965年，金属腐蚀机， RCA（美国无线电公司）研发了用于硅晶圆清洗的RCA清洗法，并将其应用于 RCA元件制作上。该清洗法成为以后多种前后道清洗工艺流程的基础，以后大多数工厂中使用的清洗工艺基本是基于初期的RCA清洗法。
苏州晶淼半导体设备有限公司致力于向客户提供湿法制程刻蚀设备、清洗设备、pp/pvc通风柜/厨、cds***集中供液系统解决方案。我们的产品广泛应用与微电子、半导体、光伏、光通信、led等行业及高等院校、研究所等等科技领域的生产和研发。
