真空离子镀膜
真空离子镀膜是在真空蒸发镀和溅射镀膜的基础上发展起来的一种镀膜新技术。通过在等离子体中进行整个气相沉积过程，真空离子镀膜工艺大大提高了膜层粒子能量，可以获得更优异性能的膜层，扩大了“薄膜”的应用领域。
优点：附着力强，不易脱落；改善了膜层的覆盖性；镀层质量高；成膜速度快；密度高、晶粒小。
真空PVD镀膜技术在手机外壳/中框及配件
手机外壳与及中框、摄像头保护圈，槽，音量按键，电源开关键等装饰件在不锈钢基材上采用真空PVD镀膜技术，加强使用耐磨硬度和颜色多种选择。
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不锈钢餐具在真空PVD镀膜技术效果
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真空镀膜主要方法：溅射镀膜。溅射镀膜是真空条件下，五金pvd镀膜价格，在阴极接上2000V高压电，激发辉光放电，五金pvd镀膜厂，带正电的离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基片上形成膜层。真空溅射薄膜的特点：可制备与靶材不同的新的物质膜。如果溅射时通入反应性气体，使其与靶材发生化学反应，这样就可以得到与靶材完全不同的新物质膜。
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