显影-苏州晶淼半导体-显影腐蚀机

      在清洗工艺中，去除刻蚀后的光刻胶残渣是半导体行业的一大技术难点，尤其是经过高浓度离子注入的光刻胶，注入的阳离子和光刻胶中的碳形成很强的化学键，使光刻胶表面高度交联，形成一层高度致密、耐腐蚀的碳化硬壳，大大增加了光刻胶的去除难度。

苏州晶淼半导体设备有限公司坚信 天道酬勤，商道酬信！精良的产品质量是我们的根本，超客户预期是我们的自我需求，真诚守信是我们的原则，我们的目标是提升中国湿制程设备制造水平和服务！

清洗常用的化学***

　　（ACE）：【用途】除去有机残余物，有机颗粒；除去光刻胶。 异bing醇（IPA）：【用途】溶解，显影腐蚀台，将有机残余物溶解。 DI水：【用途】溶解异bing醇，带走残余物。 ? SPM:  (H2SO4 : H2O2 : H2O）。

苏州晶淼半导体设备有限公司致力于向客户提供湿法制程刻蚀设备、清洗设备、pp/pvc通风柜/厨、cds***集中供液系统解决方案。我们的产品广泛应用与微电子、半导体、光伏、光通信、led等行业及高等院校、研究所等等科技领域的生产和研fa

超声清洗：

     对不同材料及孔径的MCP应采用频率、声强可调的超声波进行实验，以确定实际工艺参数。对孔径6~12μmMCP的清洗，当媒液为水和乙醇时，显影腐蚀机，可采用空化阈约1/3W/cm2，声强10~20 W/cm2，频率20~120 kHz的超声波进行清洗。

阀座加工后污物的特点

阀座经机加工后液压集成块的深孔里面的毛刺，特别是那些尚未脱落的毛刺，用普通的吹、洗等方法难于处理。曾经尝试使用火焰的方法将深孔里的毛刺烧掉后再用油和高压风冲刷清洗处理，显影设备，因毛刺的热容量较小，遇火焰很容易融化脱落而被热风带出，由于集成块的热容量大，仅使局部发热不会造成损坏。也有尝试进行酸洗的，而后再用高压液体冲洗。这二种办法均不理想。

阀座超声波清洗机其实在加工像阀体这样的工件，针对切削油较多，毛刺多而不易脱落的特点，显影，可以进行以下的清洗配合：高压喷淋+旋转+超声波，同时也是针对阀座本身加工中产生的油和屑更好的去除办法。

当然，很多人说用酸洗又快又好。殊不知，酸是很容易将毛刺腐蚀，在腐蚀毛刺的同时也腐蚀着工件本身；另，对环境更是一种致命的打击。