薄膜沉积的传统方法一直是热蒸发，或采用电阻加热蒸发源或采用电子束蒸发源。薄膜特性主要决定于沉积原子的能量，传统蒸发中原子的能量仅约0.1eV。如果蒸发沉积的原子在基底表面的迁移率低，则薄膜会含有微孔。当薄膜暴露于潮湿的空气时，电镀加工供应商，这些微孔逐渐被水汽所填充。因而，折射率是蒸发材料在真空中的折射率，电镀加工价钱，而不是暴露于潮湿空气中的材料折射率。
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镀膜常用设备：电子束蒸发、热蒸发。
常用镀膜材料：氧化、氧化铝、氧化铪、ITO、一氧化硅，横沥电镀加工，二氧化硅、五氧化二钽、五氧化二铌、氧化钛、金、银、铜、铬、铬镍合金、铝、钛。
温度范围：20-300℃。
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