选择EDI超纯水系统应注意哪些问题？ 1、产水水质：EDI超纯水系统可生产电阻率为0.5MΩ.cm、2MΩ.cm、10MΩ.cm、15MΩ.cm、18MΩ.cm水质，不同的行业有不同的水质要求，导致采用的水处理工艺不同，使用的***不同，成本自然会有所不同。 超纯水由美国科技界生产，目的是利用蒸馏、去离子、反渗透技术或其他适合的超临界精细技术开发超纯材料(半导体原材料、纳米精细陶瓷材料等)。目前超纯水已广泛应用于生物、医药、汽车等领域。除了水分子(H20)，水中几乎没有杂质，更不用说***、病毒和其他有机物质了。当然，半导体纯水设备，***不需要矿物质和微量元素。超纯水很难通过普通工艺获得。如果水的电阻率大于18mΩ*cm，接近18.3mΩ*cm，则称为超纯水。
EDI超纯水设备是将电渗析技术和离子交换技术相互结合的一种连续电除盐技术。它利用电极两端的高压使带电离子在水中移动，加速离子的去除，从而达到水净化的目的，电子纯水设备，如今，人们对水质的要求越来越高，水处理技术在不断创新，EDI纯水设备，工业纯水设备中EDI纯水处理技术可算为工艺，很多工业生产过程都离不开工业EDI超纯水设备。
EDI的工作原理
EDI是一种将离子交换技术、离子交换膜技术和离子电迁移技术（电渗析技术）相结合的纯水制造技术。该技术利用离子交换能深度脱盐来克服电渗析极化而脱盐不，又利用电渗析极化而发生水电离产生H+和OH-，这些离子对离子交换树脂进行连续再生，以使离子交换树脂保持状态。
超纯水设备出水符合芯片生产用水需求 在芯片生产中，几乎每一道工序都需要超纯水清洗，工件与水直接接触。一旦水质不达标或水中含有杂质，就会降低设备性能，降低产量。确保超纯水的质量是我国自主研发芯片的重要基础。传统的超纯水生产工艺采用阴离子树脂交换设备。这种工艺的缺点是树脂在使用一段时间后会频繁地再生，增加成本。随着膜分离技术的不断成熟，莱特莱德采用反渗透工艺，或反渗透后再采用EDI和抛光混床工艺生产超纯水，出水电导率可达18.2MΩ，天津纯水设备，满足芯片行业用水需求。随着芯片制造工艺中对设计的需求更小，对纯水水质的要求也越来越严格。莱特莱德芯片超纯水设备能在一定程度上去除水中的二氧化硅、颗粒、***、有机物和微生物，从而达到行业用水要求。
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