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高纯气体的输送管路系统

随着微电子工业的发展，高纯供气系统，超大规模集成电路制造的硅片尺寸越做越大，要求半导体制造工艺中的气体品质相应越来越高，对气体中杂质和露1点要求极为严格，需要达到ppb、ppt级，尘埃粒径求控制小于0.1～0.05m的微粒，因此对高纯气体的输送管路系统提出了非常高的要求 。

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电子特气管道系统氦检漏检测规定

1、氦检漏仪表应采用质谱型氦检测仪，其检测精度不得低于1*10-10mbar*l/s。

2、特气系统，内向测漏法测定的泄漏率不得大于1*10-9mbar*l/s;

3、阀座测漏法测定的泄漏率不得大于1*10-6mbar*l/s;

4、外向测漏法测定的泄漏率不得大于1*10-6mbar*l/s。

氦检漏发现的泄漏点经修补后，应重新经过气密性试验，合格后再按规定进行氦检漏。所有可能泄漏点应用塑料袋进行隔离。系统测试完毕，应充入高纯氮气，并进行吹扫。测试完毕后，应提交测试报告。

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高纯供气系统

持续和及时。集中供气系统采用手动、半自动或全自动切换系统，高纯供气哪里有，平时每个供气源为一开一备状态，可根据仪器工作条件对局部或整体气体压力、流量进行调节，能保证仪器用气的流量和压力的稳定性、持续性，高纯供气多少钱，也能保证量值传递不发生变化。

扩展性灵活。集中供气管道上可预留接气点以及能够扩展的点，并安装控制开关或堵头，方便扩展。所有用气的仪器前端均装控制阀。因此，可以在不影响其他仪器正常工作的情况下，扩展新的用气端点。