MEMS微纳加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，兼顾重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。
通过光刻技术制作出的微纳结构需进一步通过刻蚀或者镀膜，才可获得所需的结构或元件。
21世纪，人们仍会不断追求条件更好且可负担的、更高的生活品质和质量更好的日用消费品，并竭力应对由能源成本上涨和资源枯竭所带来的风险等“巨大挑战”。它们也是采用创新体系的商品扩大市场的推动力。微纳制造技术过去和现在一直都被认为在解决上述挑战方面大有用武之地。
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按照微纳制品的空间结构形式可以分为一维、二维和三维微纳制造。
通过光刻技术制作出的微纳结构需进一步通过刻蚀或者镀膜，才可获得所需的结构或元件。刻蚀技术，是按照掩模图形对衬底表面或表面覆盖薄膜进行选择性腐蚀或剥离的技术，可分为湿法刻蚀和干法刻蚀。湿法刻蚀较普遍、也是设备成本较低的刻蚀方法。大部份的湿刻蚀液均是各向同性的，换言之，对刻蚀接触点之任何方向腐蚀速度并无明显差异。然而自1970年代起，报道了许多有关碱性或有机溶液腐蚀单晶硅的文章，其特点是不同的硅晶面腐蚀速率相差极大，尤其是方向，足足比或是方向的腐蚀速率小一到两个数量级！因此，腐蚀速率较慢的晶面，往往便是腐蚀后留下的特定面。干法刻蚀利用等离子体来进行半导体薄膜材料的刻蚀加工。其中等离子体必须在真空度约10至0.001Torr的环境下，微流控微纳加工制作，才有可能被激发出来；而干刻蚀采用的气体，或轰击质量颇巨，或化学活性极高，均能达成刻蚀的目的。其较重要的优点是能兼顾边缘侧向侵蚀现象极微与高刻蚀率两种优点。干法刻蚀能够满足亚微米/纳米线宽制程技术的要求，且在微纳加工技术中被大量使用。
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微纳加工技术能突显一个***工业发展水平。
微纳加工平台就是一个小工厂，虽然是科研但是设备不比真正的量生设备便宜。自从某国限制出口我国滤波器件以及其他芯片，真正的促使我们更加的正视我们的芯片产业生态。微纳加工平台，主要是两个方面：微纳加工、微纳检测。微纳加工设备主要有：光刻、刻蚀、成膜、离子注入、晶圆键合等。微纳检测主要是表征检测：原子力显微镜、扫描电镜、扫声波扫描显微镜、、台阶仪等。每一个设备都包含比较多具体的分类。光刻机，也被称为***机，微流控微纳加工价钱，三大类:步进式光刻机，接触接近式光刻，电子束***。
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