显影腐蚀台-忻州显影-苏州晶淼半导体(查看)

公共事业、电力、煤气、新闻通讯行业：

需要清洗的产品：各类计量仪表、功率计、各类照明灯具、、隔电瓷瓶、通讯设备关键零部件等

污染源：油墨、油、灰尘、线头、锈、泥、海盐

使用清洗剂：有机洗涤剂；轻油（石油系洗涤剂）；碱性洗涤剂、中性洗涤剂

按频率波可以分为三种，即次声波、声波、超声波。次声波的频率为20Hz以下；声波的频率为20Hz~20kHz；超声波的频率则为20kHz以上。其中的次声波和超声波一般人耳是听不到的。超声波由于频率高、波长短，因而传播的方向性好、穿透能力强，这也就是设计制作超声波清洗机的原因。

清洗机操作规程

准备前奏检查管路系统有无漏气漏水的情况，如有这种情况，忻州显影，应通知维修人员修理。检查清洗液是否足够，如果不够，及时增加清洗液。先点动试车，然后空运转2-3分钟，检查传动系统（电动机、联轴节、减速器）和运输带的运动是否平稳，确认一切正常后，方可进行生产。开启浮油排除装置（不带浮油排除装置除外）开始浮油排除，因此时水泵尚开启，水面平静，显影清洗，排油效果*好，待浮油基本排除后停止除油，排油污多克利用午休时间进行。操作事项被清洗的零件要整齐地放在运输带上，不许压在滚轮上；在运输带上，被清洗的零件不能堆得过多，以免影响清洗效果。工作后，被清洗的零件不能停放在运输带上， 按停止按钮，使全机停止运行。清洗机 cleaning machine 采用不同的方法清洗包装容器、包装材料、包装辅助物、包装件，达到预期清洁程度的机器。清洗液应定期添加水和一定比例的金属清洗剂以补充消耗，使液面保持在一定高度，如果清洗效果达不到规定的工艺要求时，应全部更换清洗液。

MEMS是将微电子技术与机械工程融合到一起的一种工业技术，它的操作范围在微米范围内；微机电系统有多种原材料和制造技术，而硅则是用来制造微机电系统的主要原材料，微机电系统的生产方式是在基质上堆积物质层，然后使用平板印刷和蚀刻的方法来让它形成各种需要的结构。

化学清洗槽（也叫酸槽/化学槽），主要有HF，H2SO4，H2O2，显影腐蚀台，HCL等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，去离子，去原子，显影设备，后还有DI清洗。IPA是，就是工业酒精，是用来clean机台或parts的，是为了减少partical的。