金属层如镁和氟化物沉积在被涂覆的物体上(称为基底)。根据层的数量和厚度、材料类型和所用的涂层工艺，精密电镀加工价钱，可以确定反射或折射的程度。与无涂层产品不同，光学涂层使产品能够以不同的方式反射光线。涂层通常是通过使用由技术人员操作的机器来完成的，技术人员对机器过程进行编程或监督。一些机器执行自动化过程，不需要仔细监督。
光学薄膜在高真空度的镀膜腔中实现。常规镀膜工艺要求升高基底温度(通常约为300℃)；而较***的技术，如离子辅助沉积(IAD)可在室温下进行。IAD工艺不但生产比常规镀膜工艺具有更好物理特性的薄膜，而且可以应用于塑料制成的基底。填充密度定义为薄膜固体部分的体积与薄膜的总体积(包括空隙和微孔)之比。对于光学薄膜，精密电镀加工成品，填充密度通常为0.75～1.0，部分为0.85～0.95，很少达到1.0。小于l的填充密度使所蒸发材料的折射率低于其块料的折射率。
光学镀膜(Optical coating)或薄膜镀膜(film coating)是对玻璃、镜子、电脑屏幕、光纤元件等产品进行金属镀膜的一种制造工艺。对光学涂层有不同类型的要求。在某些情况下，例如在镜子中，期望的效果是产生具有高反射率的产品。通过选择具有相反折射率的材料并堆叠它们，精密电镀加工，对于显微镜或相机中使用的镜头，光学涂层用于折射光线，而不是反射光线。
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