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光学镀膜的特点是:表面光滑，渐变染色加工加工，膜层之间的界面是几何划分的，膜层在界面上的折射率可以发生跳跃，但在膜层是连续的，可以是透明介质，也可以是光学镀膜。其精度往往达到纳米甚至微纳米级别，因此，其制备复杂性不言而喻，有时小的失误会导致完全损失，为镀膜制备带来极大的困难。薄膜沉积的传统方法一直是热蒸发，或采用电阻加热蒸发源或采用电子束蒸发源。薄膜特性主要决定于沉积原子的能量，


从光学涂层中获得大利润的生产力的公司之一是加利福尼亚州的光学涂层实验室公司，北京渐变染色加工，该公司在20世纪70年代成为相对较小的圣罗莎镇的主要雇主。他们设计了这样的产品，如无反射的计算机屏幕、航天飞机的窗户和钱德拉X射线望远镜的镜子。该公司随后在20世纪90年代末收购了该公司。虽然此举似乎表明该公司有更大的产能来提高产量，渐变染色加工订制，但终取消了整个光学涂层业务。


光学镀膜何原理？工艺是否合格呢？光学镀膜用于增强光学组件的透射、反射或偏振特性。例如，每个未镀膜玻璃器件表面将会有大约10%的入射光被反射。采用增透膜可将各表面的反射率降低到 0.1% 以下，为了地提高或降低干涉，它们的光学厚度通常为应用中所使用的光的波长的 λ/4 光学厚度 (QWOT) 或 λ/2 光学厚度 (HWOT)。这些薄膜由高折射率和低折射率交替而成，从而诱发需要的干涉效应


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