





Ni-P化学镀层除了耐磨和抗蚀性之外,还因具有电阻特性、磁性、非磁性、可焊性、耐热性等,因此在电子工业、磁性记录材料制备、超大规模集成电路技术和微机电系统制造等方面具有广泛的应用。随着纳米技术的发展,锰系磷化加工,化学镀在纳米材料制备中已展示其特殊的应用价值,如在制备碳纳米管催化剂和以“模板合成法”生产纳米棒或纳米线等方面显示的优势。
通常化学镀施镀温度较高,降低镀液温度不仅可以提高镀液稳定性、降低生产成本,而且可以减少镀液挥发量,从而起到节约能源和保护环境的双重***。设计中温或低温化学镀过程,***有前景的方案是选择合适的络合剂与添加剂。添加剂用量少,对沉积速度和镀层性能影响显著,但是目前对添加剂作用机理的研究尚不够深入。同时,由于活化步骤关系到化学镀发生与否、沉积速度快慢、镀层质量好坏等问题,探索活化过程的机理、发展新的活化方法等也成为化学镀技术革新的关键。
镀层发暗、发黑的原因分析
镀层发暗、发黑的原因
镀 层发 暗 多数 出现 在低 电流 密度区 ( 零件 深 凹处 ) ,偶尔也有出现在中电流密度区或高电流密度区。
( 1 ) 低 电流 密度 区镀 层发 暗 ,可能是镀 液温度太高 ,电流密度太小,主 盐浓度 太低 ,二次光 亮剂过多或镀液中有铜 、锌等 异金属杂质所 引起的。
( 2 ) 中 电流密度 区镀 层发暗 ,可 能是 由二次光亮剂太少 ,有机杂质过多或有一定量 的铁杂质 所造成的。
(3 ) 高 电流 密度 区镀层 发暗 ,可能 是镀液pH值太高 ,一次光亮剂太少或镀液 中有 少量 的铬酸 盐、磷酸盐及铅杂质所引起的。
(4 ) 镀前 处理 不 良,镀 件表面 有碱膜 或有机 物吸附膜 ,或者底镀层 不好 ,也会导致镍层 出现 发暗的现 象。
分析这类故障,锰系磷化价格,可以取镀镍液先做霍尔槽试验 ,假使 多次试验 ,霍尔槽的阴极样板上镀层状况 良好 ,没有 出现发暗 的现象 ,那么 电镀时 出现 的故障可能是镀前处理不良或底镀层不好所造成的,应该认真检查电镀前的情况。若霍尔槽试验所得阴极样板上出现低电流密度区镀层发暗,则可以根据前面提到的可能原因进行分析。
中、高 电流 密度区镀层发暗 ,也 可用类似的方法进行试验。如果 光亮镀 镍层 整个工件都不光 亮,究其 原因无非是 :镀 液 中光亮剂 不足 ;镀液 的pH 值 不适 当 :镀液温度太低 :阴极 电流 密度太小 ;金属杂质和有机杂质干扰严重;工件基体太差,本身太粗糙。由于故障的原因较单一,一查就知。因此,排除其故障也很简单 。
工业 化学镀镍技术在上得到广泛的应用,突出的例子如航空母舰上飞机弹射机罩和轨道的化学镀镍保护。弹射机的工作环境非常恶劣,飞机发动时的高温气流冲刷轨道,弹射时的巨大的作用力,海洋气候条件的腐蚀,使得弹射系统仅能使用6~12个月。现采用的表面处理工艺是:正确前处理后的弹射机罩,天津锰系磷化,在电镀镍后,化学镀镍100um,然后再电镀镉12.5um,并经铬酸钝化。这样的复合涂覆保护层,锰系磷化加工厂,具有很好的耐磨和抗微振磨损性能,弹射系统的使用寿命可延长至14~18年,即增加18倍。
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