我们知道，光学平台台面，若为达到高平面度，通常需要反复磨削，在加工过程中，多次磨削容易使材料产生形变，为了减少形变，通常要加厚台面，但我们通过振动***时间的说明已经知道，台面加厚质量增加，科研级气浮隔振平台，平台的振动***时间往往成倍（甚至几倍）增加，在很多精密光学实验中，这是不可接受的。 对于平台上的光学元件来说，平面度引起的高度差，通常可以忽略不计，若确有必要考虑高度差，则完全可以通过卓立精密调整的位移台来实现。综上所述，光学平台的平面度，同光学平台的隔振性能不相关，只能做为光学平台的一个辅助指标，供参考。
精密光学平台通过计算机的点差校准，需要计算机每次通过一个光学目标时，定向一个有限的波长作为校准，逐步的重复计算，有多少次以上就需要多少次重复，才能保证校准完成，基于单光束光场的校准，一方面需要一台或多台设备***进行多光束光场的校准，另一方面，每次校准不仅要定向一个有限的波长，还要定向多个目标，通过相邻光束的检测，得到点差，然后再逐步重复计算，直到，用校准码算出激光束的方向，接下来对校准码与初始码的比对，校准码的特有性问题。
光学平台的结构
光学隔振平台外框采用刚性强，变形小，焊接性能好的精良中碳钢板；隔振层利用固有频率低，阻振性能强的蜂窝结构材料，能Z大限度控制振动的响应。面板采用高导磁不锈钢板，精磨后具有实用、美观和耐磨等特点。粗糙度0.8~1.6μm，平面度0.05~0.10mm/cm2。
（1）隔振基础部分可根据具体要求。
（2）调节支撑部分:采用耐磨丝杆和平面推力球轴承，使用时轻松可靠。
（3）自动平衡系统：采用空气伺服系统，自动调整水平。它的突出特点是把系统对微振的响应反馈到系统中，改变隔振特性，提高隔振效果，在超载偏重的实验条件下瞬间达到初始的平衡状态。
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