PECVD真空镀膜加工-陕西PECVD真空镀膜-半导体镀膜

PECVD真空镀膜MEMS真空镀膜加工平台——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，兼顾重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，PECVD真空镀膜加工，以及行业应用技术开发。

哪些溅射靶材可用于热反射镀膜

银溅射靶材

银是一种柔软、有光泽的元素，PECVD真空镀膜加工厂，属于元素周期表中金属的过渡族。它的熔点为 962 ℃，密度为 10.5 g/cc，在 1，105 ℃ 时的蒸气压为 10-4 Torr。自古以来，银就被用于无数产品中。它具有延展性、延展性，并且是所有金属中导电性强的。它被认为是一种，可以在珠宝、焊料、油漆和镜子中找到。它在真空下蒸发以生产半导体、传感器、燃料电池和光学涂层

镍溅射靶材

镍是一种银白色有光泽的金属，略带金色。广泛用于海绵镍和装饰涂料的生产。当在真空中蒸发时，镍可以在陶瓷表面或电路设备制造中形成焊料层。它经常被溅射以在磁存储介质、燃料电池和传感器中创建层。AEM 提供高纯度和细晶粒的镍溅射靶材。同等条件下，涂膜比同类产品更均匀，涂膜面积增加10%～20%。

铜溅射靶材

铜是一种延展性金属，具有非常高的导热性、导电性、延展性、耐腐蚀性。新暴露的纯铜表面呈红橙色。高纯铜在电子电气工业中用作各种线材、电子封装的键合线、音频线和集成电路、液晶显示器溅射靶材、离子镀等。它也是原子能、火箭、、航空、航天导航和冶金工业中不可缺少的宝贵材料。AEM根据要求提供高纯度OFC、白铜和合金产品。

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微电子从40年代末的只晶体管(Ge合金管)问世，50年代中期出现了硅平面工艺，此工艺不仅成为硅晶体管的基本制造工艺，陕西PECVD真空镀膜，也使得将多个分立晶体管制造在同在一硅片上的集成电路成为可能，随着制造工艺水平的不断成熟，使微电子从单只晶体管发展到今天的ULSI。

回顾发展历史，微电子技术的发展不外乎包括两个方面:制造工艺和电路设计，而这两个又是相互相成，互相促进，共同发展。

1.1半导体工业的诞生

·电信号处理工业始于上个世纪初的真空管，真空管使得收音机、电视机和其他电子产品成为可能。它也是世界_上台计算机的大脑。

·真空管的缺点是体积大、功耗大，寿命短。当时这些问题成为许多科学家寻找真空管替代品的动力，这个努力在1947年12月23日得以实现。也就是只Ge合金管的诞生。如图所示。

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热反射镀膜玻璃又称阳光控制镀膜玻璃，俗称镀膜玻璃，是指具有反射太阳能功能的镀膜玻璃。一般通过在玻璃表面镀上金属或金属氧化膜，可以反射大量的太阳辐射和光线。

热反射玻璃

热反射玻璃具有良好的遮光和隔热性能。近年来，热反射镀膜玻璃已广泛应用于宾馆、饭店、商业场所。随着节能问题的日益突出，PECVD真空镀膜技术，热反射玻璃也被应用于住宅建筑。

热反射汽车玻璃

热反射镀膜玻璃能有效反射太阳红外光（20-25%），阻隔热量进入车内（隔热性能>30%），降低空调负荷，保持良好的透光率（70- 75%），并保持清晰的视野。因此，热反射镀膜玻璃对溅射靶材的需求不断增加。

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