钨金属真空镀膜MEMS真空镀膜加工平台——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，兼顾重大技术应用的基础研究，钨金属真空镀膜服务，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。
可变参数
在溅射过程中，通过改变改变这些参数可以进行工艺的动态控制。这些可变参数包括:功率、速度、气体的种类和压强。
功率
每一个阴极都具有自己的电源。根据阴极的尺寸和系统设计，功率可以在0 ~ 150KW(标称值)之间变化。电源是一个恒流源。在功率控制模式下，功率固定同时监控电压，通过改变输出电流来维持恒定的功率。在电流控制模式下，固定并监控输出电流，这时可以调节电压。施加的功率越高，沉积速率就越大。
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3试验
3.1试验目的
①熟悉真空镀膜的操作过程和方法。
②了解磁控溅射镀膜的原理及方法。
③学会使用磁控溅射镀膜技术。
④研究不同工作气压对镀膜影响。
3.2试验设备
SAJ-500超高真空磁控溅射镀膜机(配有纯铜靶材) ;气瓶;陶瓷基片;擦镜纸。
3.3试验原理
3.3. 1磁控溅射沉积镀膜机理
磁控溅射系统是在基本的二极溅射系统发展而来，解决二极溅射镀膜速度比蒸镀慢很多、等离子体的离化率低和基片的热效应明显的问题。磁控溅射系统在阴极靶材的背后放置强力磁铁，真空室充入0.1~ 10Pa压力的惰性气体(Ar)，作为气体放电的载体。
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使用电子束来加热蒸发形成蒸发膜的优点有以下几条：首先，镀膜机中的电子束加热的方法相较于传统的电阻加热方法而言，电子束加热会产生更高的通量密度，对于那些高熔点的材料的蒸发可以说是有利条件，还可以使蒸发速率得到一定程度上的提高。其次，蒸发镀膜机在工作的时候会将需要被蒸发的原材料放入到水冷铜坩埚内，这样就可以保证材料避免被污染，钨金属真空镀膜价格，大幅度提高薄膜的纯度，制造高纯度的薄膜。后，电子束蒸发的粒子动能较大，有利于薄膜的精密结合。
电子束蒸发镀膜机的系统组成一般大致相同系统主要由蒸发真空室、E型电子、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。
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