工业纯水设备中EDI工艺的优势
连续产出超纯水，半导体纯水设备价格，出水水质具有的稳定度，以高产率产生超纯水(产率可以高达95%)；
模块化生产，实现设备的全自动控制；
不需要酸碱再生，不会因为再生而停机；
不需要酸碱稀释运输设施和酸碱储备；
设备结构紧凑，体积小，占地面积少；
使用，避免人工接触酸碱；
节省了反冲和清洗用水，无再生污水，不须污水处理设备；
安装简单方便，安装费用低廉;减低设备的运行成本及维修成本；
设备运行操作简单，劳动强度较低；
EDI超纯水设备工作原理
半导体材料是在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电等领域进行应用的。半导体材料在应用中会需要一定量的超纯水，半导体纯水设备，可用于清洗，该超纯水电阻率达到了18兆欧，半导体纯水设备报价，不含导电介质和金属离子，可满足作为半导体清洗用水的需求。采用两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺，处理后的水质可达到18MΩ.CM以上，符合半导体用水标准。设备采用如今大热的膜技术，可有效去除水中的导电介质，以及水中不离解的胶体物质、气体及有机物，设备的出水纯度高，无病毒与***，不含任何悬浮物、无化学污染，产出的可谓是高品的超纯水了
设备长期停运时如何***。
答：短期停机(不超过三天)，每天必须用保安过滤器冲洗30分钟并保证RO组件内充满过滤水。RO装置如长期停机(大于三天)，应采用1%甲醛溶液，充满RO组件，半导体纯水设备安装，然后关闭所有阀门，且每月检查一次。
超纯水抛光树脂应该如何保管?
答：防冻，超纯水抛光树脂的保存环境需在周围环境>40℃情况下，如果温度低于5℃，为防止树脂结冰，可以把树脂放在水溶液中。
防干，由于超纯水抛光树脂在使用或储运中水份消失，在发生此种情况时，切不可把树脂直接投落水中，而是先将其浸泡于饱和水中，使其缓慢膨胀不致破碎
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