在半导体生产中，超纯水主要用于清洗硅片。少量水用于配制药剂、硅片氧化的蒸汽源、某些设备的冷却水、电镀溶液的配制。集成电路产品的质量与产量密切相关。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，***(Au、Ag、Cu等)会降低PN结的耐压力，III族元素 (B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化。***高温炭化水中的磷(约为灰分的20%~50%)会使p型硅片局部变为N型硅片，导致器件性能下降。水中的颗粒，包括***，如果附着在硅片表面，会导致短路或性能恶化。可见，超纯水在半导体行业的必要性。
EDI膜堆主要由交替排列的阳离子交换膜、浓水室、阴离子交换膜、淡水室和正、负电极组成。离子交换树脂充夹在阴阳离子交换膜之间形成单个处理单元，并构成淡水室，单元与单元之间用网状物隔开，形成浓水室。在直流电场的作用下，淡水室中离子交换树脂中的阳离子和阴离子沿树脂和膜构成的通道分别向负极和正极方向迁移，电子超纯水设备价格，阳离子透过阳离子交换膜，阴离子透过阴离子交换膜，电子超纯水设备厂，分别进入浓水室形成浓水。同时EDI进水中的阳离子和阴离子跟离子交换树脂中的氢离子和氢氧根离子交换，形成超纯水（高纯水）。超极限电流使水电解产生的大量氢离子和氢氧根离子对离子交换树脂进行连续的再生。传统的离子交换，离子交换树脂饱和后需要化学间歇再生。而EDI膜堆中的树脂通过水的电解连续再生，工作是连续的，电子超纯水设备，不需要酸碱化学再生。
EDI装置将给水分成三股***的水流：纯水、浓水、和极水。纯水（90%-95%）为终得到水，电子超纯水设备报价，浓水（5%-10%）可以再循环处理，极水（1%）排放掉。
EDI超纯水设备时应注意哪些问题?1、产水水质：EDI超纯水设备可产生0.5MΩ.cm、2MΩ.cm、10MΩ.cm、15MΩ.cm、18MΩ.cm的水质，不同行业有不同的水质要求，采用的水处理工艺不同，使用的***不同，成本自然会有所不同。 2、设备材料：工业超纯水设备通常采用玻璃钢和不锈钢两种材质制成，应根据水处理工艺确定。 3、出水：由于超纯水不能直接与空气接触，在整个超纯水设备的末端应设置一个超纯水水箱。该超纯水水箱的尺寸主要由企业每小时所需的超纯水量决定。
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