满足系统出水溶解氧＜5ppb的要求。3.2.4.2TO去除器TOC去除器的主要功能是利用185μm 波长紫外线将水光解成氢氧根离子和氢离子，高纯水设备供应商，氢氧根离子能氧化和裂解有机物，使其被氧化形成碳酸氢根离子后，被后续混床去除。TOC去除器出力23.0m3／h，TOC可减少到5ppb以下。3.2.4.3抛光混床设置抛光混床是为了进一步去除超纯水循环系统中可能引入的微量离子，高纯水设备哪家好，保证出水电阻率 ＞ 18.1MΩ.cm，池州高纯水设备，以满足用户要求。抛光混床内装填的树脂为超纯水级树脂，失效后无需再生，直接更换。
活性炭难吸附物质类型：1、醇类;2、纸分子酮、酚醛;3、糖、淀粉;4、分子量很高的有机物或胶体有机物;综上所述，活性碳具有降低水的氧化要求、避免有机物进入以致***离子交换床、去除水中残留的氯的作用。经活性碳过滤后的水再进入R.O反渗透过装置。反渗透膜的孔径一般为10A到100A之间，所以它能够去除95%以上的离子态杂质。高纯水设备的EDI工艺系统选用经过一次反渗透除盐后的水作为进水
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