




真空电镀:Vacuum Metalizing,即是物***相沉积(PVD),即在真空下将原子打到靶材表面上达到镀膜的目的。早运用于光学镜片,如航海望远镜镜片,后来随着技术的改进,延伸到了唱片、磁盘、光盘、手机外壳、机械刀具等材料上的装饰镀膜、材料表面改性等。
设计考虑因素
真空电镀所使用设备通常较为高昂,加上工艺流程复杂,对环境要求高;为此真空电镀单价比水电镀昂贵。
真空电镀受设备内真空环境体积影响,因此对靶材尺寸有一定的要求,不适合大靶材,真空电镀,常见的真空腔室内靶材应小于1.2 * 1.1m(3.94 * 3.3ft),3D工件应小于1.2 * 0.5m(3.94 * 1.6ft)

电镀的原理(以镀铜为例):
在电源的作用下,东莞真空电镀加工,电流通向阳极,阳极板不断失去电子,失去电子的金属铜离子扩散到镀液中(即阳极的溶解过程);失去的电子在电源电势的驱动下,向电流反方向运动,通过直流电源富集到阴极上,佛山真空电镀厂家,铜离子在阴极上不断得到电子而还原成金属镀层。
阴极(镀件):[Cu2+]+2e→Cu (主反应)
2[H+]+e→H2↑ (副反应)
阳极(镍板):Cu -2e→Cu2+ (主反应)
4[OH-]-4e→2H2O+O2↑+4e (副反应)
真空电镀
真空电镀
PVD真空电镀是一种真空沉积工艺,近年来越来越多地被使用,不再被视为实验室工艺。它已经扩大规模,以合理的成本处理大型复杂的各类产品。
目前水电镀在重工业上应用较多(汽车等),深圳真空电镀,而真空电镀则广泛应用于家用电器、化妆品包装。
如果真空电镀的硬度能达到水电镀的等级,那么水电镀将要消失了。
目前很多手机上的金属外观件,都采用PVD真空离子镀,不仅能够提供漂亮的颜色而且耐磨性很好。不过比较贵,成本较高。

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