在半导体生产中，唐山edi超纯水设备，超纯水主要用于清洗硅片。少量水用于配制药剂、硅片氧化的蒸汽源、某些设备的冷却水、电镀溶液的配制。集成电路产品的质量与产量密切相关。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，***(Au、Ag、Cu等)会降低PN结的耐压力，III族元素 (B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化。***高温炭化水中的磷(约为灰分的20%~50%)会使p型硅片局部变为N型硅片，导致器件性能下降。水中的颗粒，包括***，如果附着在硅片表面，会导致短路或性能恶化。可见，超纯水在半导体行业的必要性。
选择EDI超纯水系统应注意哪些问题?
选择EDI超纯水系统应注意哪些问题？ 1、产水水质：EDI超纯水系统可生产电阻率为0.5MΩ.cm、2MΩ.cm、10MΩ.cm、15MΩ.cm、18MΩ.cm水质，不同的行业有不同的水质要求，导致采用的水处理工艺不同，使用的***不同，成本自然会有所不同。 超纯水由美国科技界生产，目的是利用蒸馏、去离子、反渗透技术或其他适合的超临界精细技术开发超纯材料(半导体原材料、纳米精细陶瓷材料等)。目前超纯水已广泛应用于生物、医药、汽车等领域。除了水分子(H20)，水中几乎没有杂质，更不用说***、病毒和其他有机物质了。当然，***不需要矿物质和微量元素。超纯水很难通过普通工艺获得。如果水的电阻率大于18mΩ*cm，edi超纯水设备厂家，接近18.3mΩ*cm，edi超纯水设备厂，则称为超纯水。
半导体材料是在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电等领域进行应用的。半导体材料在应用中会需要一定量的超纯水，可用于清洗，该超纯水电阻率达到了18兆欧，edi纯水设备，不含导电介质和金属离子，可满足作为半导体清洗用水的需求。采用两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺，处理后的水质可达到18MΩ.CM以上，符合半导体用水标准。设备采用如今大热的膜技术，可有效去除水中的导电介质，以及水中不离解的胶体物质、气体及有机物，设备的出水纯度高，无病毒与***，不含任何悬浮物、无化学污染，产出的可谓是高品的超纯水了
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