显影-晶淼半导体-显影设备

清洗常用的化学***

　　（ACE）：【用途】除去有机残余物，有机颗粒；除去光刻胶。 异bing醇（IPA）：【用途】溶解，将有机残余物溶解。 DI水：【用途】溶解异bing醇，带走残余物。 ? SPM:  (H2SO4 : H2O2 : H2O）。

苏州晶淼半导体设备有限公司致力于向客户提供湿法制程刻蚀设备、清洗设备、pp/pvc通风柜/厨、cds***集中供液系统解决方案。我们的产品广泛应用与微电子、半导体、光伏、光通信、led等行业及高等院校、研究所等等科技领域的生产和研fa

清洗的注意事项：

(1)关机重启后，时间间隔1分钟以上，否则可能会造成电气损坏；

(2)设备运行中，注意去离子水流量不得超过允许值，显影，否则可能由于排放受阻而造成机器损坏；

(3)每次运行完毕后取出片子时，显影设备，注意卡塞口是否朝上，纠正后再取出，否则片子会掉出来；

(4)一旦发现水路的关联件出现“漏水”、“滴水”现象应立即关机，检修后再运行。

干法清洗：

　　对于已经氢还原的MCP，显影腐蚀机，因为二次电子发射层已经形成，如果采用化学清洗或湿法清洗容易造成对MCP电性能的***，并可能产生清洗介质对MCP的再次污染。因此氢还原后的MCP，一般选用干法清洗，主要包括等离子清洗、辉光放电、紫外清洗等清洗技术。

传统真空干燥工艺的缺陷在哪？

超级电容、电容以及锂离子电池行业的众多生产厂家基本采用了传统的真空干燥方法。

这里指的传统真空干燥方法，显影清洗机，是指单一真空干燥功能、单一工序的、打开密封门即进入大气环境的真空干燥方式。

这样大家就比较容易找到传统的真空干燥方法的缺点：就是从一个工序转移到下一道工序时，超级电容CELL在这个时间段又暴露在大气环境中，从而导致水份、空气再次进入CELL。

水份、空气再次导入CELL，从而在制造过程中就使超级电容CELL先天不足，提高MODULES的各项性能和技术指标亦然成为伪命

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