超纯水设备出水符合芯片生产用水需求
是指载有集成电路的半导体元件。芯片制造又称晶圆制造，是在晶圆表面通过物理和化学工艺步骤形成器件，并用金属线将器件连接起来形成集成电路的过程。芯片的需求主要来自科技的蓬勃发展，电子消费产品芯片的需求不低于汽车行业的需求。芯片的生产过程冗长，对所有的设备技术要求很严格，短时间解决芯片短缺问题仍然是一个难题，edi纯水设备厂家，而如何提高芯片的成品率问题就显得尤为重要。
超纯水设备技术应用出水符合电镀行业用水需要
超纯水设备技术应用 出水符合电镀行业用水需要电镀工艺作为一项重要的表面工程技术，自1840年应用于镀银以来，已有160多年的历史。20世纪以来，天津edi纯水设备，随着科技的进步和工业化水平的不断提高，edi纯水设备生产，电镀在汽车、机械设备、造船、航空航天、电子、轻工等行业的产品表面处理中不可少。目前，电镀已由一般的装饰防护向高耐腐蚀、功能化发展。随着电镀新工艺、新材料、新设备的不断开发与应用，电镀工业创造了新局面，应用领域不断拓大。
EDI超纯水设备运行过程中电阻率下降的原因与进水水质、压力、流量、电压和进水水质的污染有关，包括以下几点： 1、前置反渗透设备出水不合格 如果原水含盐量较高，建议采用双级反渗透设备设备进行预脱盐，其电导率应保持在1～3μS/cm。若进水CO2含量高，建议使用脱气膜或脱气塔去除CO2。如果pH值偏离中性太大，调整pH值，使EDI进水pH值为7～8。 2、当前的EDI控制系统存在问题 工作电流增大，产水水质不断改善。然而，如果电流在增加到顶点后增加，由于水电离产生过量的H+和OH-离子，除了再生树脂外，大量剩余离子作为载流离子导电。同时，由于大量载流离子在运移过程中积累和堵塞，甚至反扩散，导致产水水质下降。
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