半导体纯水设备-天津瑞尔环保-半导体纯水设备价格

超纯水的水质直接关系到半导体成品率

在半导体生产中，半导体纯水设备安装，超纯水可用于晶圆漂洗、化学稀释、化学机械研磨、洁净室环境的加湿源等。超纯水的质量直接关系到半导体的成品率，随着半导体元件尺寸的缩小和细度的提高，对超纯水质量的技术要求也在不断提高。

在超纯水生产过程中，只要微粒子、电阻率和TOC与气泡中的某一指标稍有差异，就会使半导体元件生产的合格率下降。

EDI超纯水系统进水水质指标控制措施如下：进水CO2的控制。反渗透前可通过加碱调节pH值，尽可能多地去除CO2，也可通过脱气塔和脱气膜去除CO2。进水硬度控制。结合CO2去除，RO进水可以软化和加碱。当进水含盐量较高时，半导体纯水设备定制，可加入一级反渗透或纳滤结合脱盐。　TOC控制。结合其他指标要求，增加RO级别以满足要求。浊度和污染指数的控制。浊度和污染指数是RO系统进水控制的主要指标之一。合格的RO出水一般都能满足EDI超纯水系统进水要求。

原因一：颗粒或是胶体堵塞

　　进水颗粒度>5um时会造成进水流道堵塞，半导体纯水设备，引起模块内部水分分部不均匀，从而导致模块整体性能降低。

　　建议：在进入EDI模块前段增设保安过滤器(<0.2um)。

　　原因二：有机物堵塞

　　当进水有机物污染TOC或TEA含量超过设计标准时，淡水室的离子交换树脂和离子膜会发生有机物的堵塞。

　　建议：采用高PH值的对淡水室及浓水室循环清洗。