超纯水设备出水符合芯片生产用水需求 在芯片生产中，几乎每一道工序都需要超纯水清洗，工件与水直接接触。一旦水质不达标或水中含有杂质，就会降低设备性能，降低产量。确保超纯水的质量是我国自主研发芯片的重要基础。传统的超纯水生产工艺采用阴离子树脂交换设备。这种工艺的缺点是树脂在使用一段时间后会频繁地再生，增加成本。随着膜分离技术的不断成熟，莱特莱德采用反渗透工艺，或反渗透后再采用EDI和抛光混床工艺生产超纯水，出水电导率可达18.2MΩ，满足芯片行业用水需求。随着芯片制造工艺中对设计的需求更小，对纯水水质的要求也越来越严格。莱特莱德芯片超纯水设备能在一定程度上去除水中的二氧化硅、颗粒、***、有机物和微生物，从而达到行业用水要求。
超纯水的“有效期”是多久？
超纯水的“有效期”是多久？1、即取即用 超纯水取水后很容易遭到环境污染，所以即取即用方式更合适。只有把超纯水与环境接触的时间缩短，半导体纯水设备价格，才能够获得纯度极高的超纯水。 2、存放时间 在配制高纯度的化学***时，尽量不要使用长时间储桶中存放的超纯水，半导体纯水设备厂家，因为储桶经长时间使用后，会因杂质、微生物的污染而造成水质的劣化，储存时间过长会导致超纯水在使用时已经不再是超纯水。 3、纯水储桶需安装空气过滤器，防止环境因素造成的污染。
选择EDI超纯水系统应注意哪些问题？ 1、产水水质：EDI超纯水系统可生产电阻率为0.5MΩ.cm、2MΩ.cm、10MΩ.cm、15MΩ.cm、18MΩ.cm水质，不同的行业有不同的水质要求，导致采用的水处理工艺不同，半导体纯水设备安装，使用的***不同，成本自然会有所不同。 超纯水由美国科技界生产，目的是利用蒸馏、去离子、反渗透技术或其他适合的超临界精细技术开发超纯材料(半导体原材料、纳米精细陶瓷材料等)。目前超纯水已广泛应用于生物、医药、汽车等领域。除了水分子(H20)，水中几乎没有杂质，唐山半导体纯水设备，更不用说***、病毒和其他有机物质了。当然，***不需要矿物质和微量元素。超纯水很难通过普通工艺获得。如果水的电阻率大于18mΩ*cm，接近18.3mΩ*cm，则称为超纯水。
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