EDI超纯水系统进水水质指标控制措施如下： 1、控制进水电导率。控制预处理过程中的电导率，保定纯水设备，使EDI超纯水系统入口电导率小于40μS/cm，确保出水电导率合格，去除弱电解液。 2、工作电压电流控制。系统在运行过程中应选择合适的工作电压电流。同时，EDI超纯水系统的电压-电流曲线上存在一个极限电压-电流点，EDI纯水设备，它与进水水质、膜和树脂性能、膜结构等因素有关。为了电离一定量的水以产生足够的H+和OH-离子以再生一定量的离子交换树脂，所选EDI超纯水系统的电压-电流工作点必须大于极限电压-电流点。
?EDI设备的优点：
在半导体生产中，超纯水主要用于清洗硅片。少量水用于配制药剂、硅片氧化的蒸汽源、某些设备的冷却水、电镀溶液的配制。集成电路产品的质量与产量密切相关。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，***(Au、Ag、Cu等)会降低PN结的耐压力，III族元素 (B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化。***高温炭化水中的磷(约为灰分的20%~50%)会使p型硅片局部变为N型硅片，edi纯水设备，导致器件性能下降。水中的颗粒，包括***，如果附着在硅片表面，会导致短路或性能恶化。可见，超纯水在半导体行业的必要性。
超纯水设备发展前景广阔
传统的超纯水制备工艺通常采用离子交换树脂制备，但离子交换树脂停止生产需要树脂再生，高能耗也增加了劳动力成本。经过多年的实践，超纯水设备结合膜分离技术，利用反渗透结合EDI装置制备超纯水，出水电阻率可达18.2MΩ.cm(25℃)，满足半导体生产用水的需求。同时，设备还配备了反渗透预脱盐技术，以确保设备的出水水质。同时，EDI处理装置产生的废水较少，不会污染环境，超纯水设备，具有较高的环境效益和经济效益，具有广阔的发展前景。
超纯水设备具有连续出水、无需酸碱再生和无人值守、安装简便、操作方便等优势，出水水质符合电池用水相关标准，为半导体用水保驾护航。随着超纯水设备技术不断完善，开启了各行业生产发展的新局面。许多企业在生
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