以合成寡核苷酸探针为例，该技术主要步骤为：首先使支持物羟基化，并用光敏保护基团将其保护起来。每次选取择适当的蔽光膜（ mask ）使需要聚合的部位透光，其它部们不透光。这样，光通过蔽光膜照射到支持物上，受光部位的羟基解保护。因为合成所用的单体分子一端按传统固相合成方法活化，另一端受光敏保护基的保护，表面氨基化方法，所以发生偶联的部位反应后仍旧带有光敏保护基团。因此，每次通过控制蔽光膜的图案（透光与不透光）决定哪些区域应被活化，表面氨基化的目的，以及所用单体的种类和反应次序就可以实现在待***点合成大量预定序列寡聚体的目的。
防脱片的成分为载玻片(盖玻片)、玻片修饰剂(黏附剂)，常用的黏附剂有APES(3-Aminopropyl-Triethoxysilane 3-氨丙基-3-乙氧基)、多聚-L-赖氨酸(Poly-L-Lysine)、明胶、蛋清等。细胞学常用黏附剂为APES和多聚-L-赖氨酸 ，***学常用明胶、蛋清等。
一、载玻片和盖玻片的处理
将载玻片或培养用的小盖片浸泡在清洁液中24小时，然后流水充分冲洗，再用蒸馏水冲洗3遍以上，而后置95%乙醇中12小时。取出擦干或烤干，广东表面氨基化，贮放于玻片盒内备用。盖玻片很薄，以上处理程序必须缩短时间，表面氨基化原理，清洁液浸泡只需2小时，流水冲洗注意勿损伤玻片。
表面修饰基团后的基材可共价结合大多数类型的生物分子，包括氨基、蛋白质和非修饰的DNA，RNA等等。基材表面进行基团修饰后可以实现高密度阵列，用于DNA和蛋白质的共价和定向结合类产品，如：cDNA芯片、微流控荧光芯片。
1.PMMA、PS、玻璃、硅等多种基材均可处理
2.氨基、炔基、醛基、环氧基多种功能团可选，根据具体项目择适合的功能团进行修饰，通过调节产生佳结合
3.个性化定制服务，帮助客户实现产品量产化
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