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满足系统出水溶解氧＜5ppb的要求。3.2.4.2TO去除器TOC去除器的主要功能是利用185μm 波长紫外线将水光解成氢氧根离子和氢离子，氢氧根离子能氧化和裂解有机物，使其被氧化形成碳酸氢根离子后，被后续混床去除。TOC去除器出力23.0m3／h，TOC可减少到5ppb以下。3.2.4.3抛光混床设置抛光混床是为了进一步去除超纯水循环系统中可能引入的微量离子，保证出水电阻率 ＞ 18.1MΩ.cm，以满足用户要求。抛光混床内装填的树脂为超纯水级树脂，失效后无需再生，直接更换。



有关工业生产纯水设备造成污垢了该怎么办的內容就为大伙儿详细介绍到这儿了，机器设备内发生污垢，很多人都把它当做一个小难题，但假如没立即的解决，便会导致机器设备的毁坏，超纯化学***纯水价格，因此当机器设备发生一切难题时都不必忽视，超纯化学***纯水哪里好，都需要高度重视起來。

1、依据使用说明给机器设备按时做维修***，安庆超纯化学***纯水，拆换耗品。

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纯水设备膜清洗的条件

1、进水和浓水的压差上升到初始压差值的15%；

2、产水量降低了10%；

3、透盐率增加了20%；

在清洗之前确定膜表面的污垢类型，可以根据SDI测试膜片上残留物的颜色、粘稠度等对污垢进行判别。例如，褐色的残留物一般为铁污垢；白色或米色残留物可能是硅、砂质粘土、钙垢；晶状体外形残留物是无机胶体、钙垢；生物污垢或有机污垢除了有气味外，通常还呈现粘稠状。

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