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苏州晶淼半导体设备有限公司

普通会员4
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企业等级:普通会员
经营模式:生产加工
所在地区:江苏 苏州
联系卖家:王经理
手机号码:13771773658
公司官网:www.jmbdt.com
企业地址:苏州工业园区金海路34号
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苏州晶淼半导体设备有限公司致力于向客户提供湿法制程刻蚀设备、清洗设备、PP/PVC通风柜/厨、CDS集中供液系统一站式解决方案。我们的产品广泛应用与微电子、半导体、光伏、光通信、LED等行业及高等院校、研究所等等科技领域的生产和研发。我们的每台设备除标准化制作外,还可根据客户的工艺需求和工作环境的具......

SPM腐蚀机-晶淼半导体 清洗机-盐城SPM

产品编号:1000000000023943347                    更新时间:2023-04-10
价格: 来电议定
苏州晶淼半导体设备有限公司

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  • 主营业务:半导体清洗机,半导体清洗设备,半导体湿法设备
  • 公司官网:www.jmbdt.com
  • 公司地址:苏州工业园区金海路34号

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产品详情





湿法刻蚀机台,适用于半导体湿法刻蚀工艺,包括:支撑结构,SPM腐蚀台,支撑结构提供一支撑面用以支撑待刻蚀的晶圆;待刻蚀的晶圆与支撑面之间预设一预定距离,支撑面朝向待刻蚀的晶圆的一面均布有多个气体喷嘴;控温加热装置,SPM腐蚀设备,连接边缘的气体喷嘴的气体管路,以加热气体管路内的保护气体;喷嘴装置,设置于支撑面的上方,喷嘴装置包括一喷嘴与一液体输送管,喷嘴设置于朝向支撑面的一面,液体输送管连接喷嘴背向支撑面的一端。




反应离子刻蚀原理是将通入刻蚀室的工艺气体分子解离,产生等离子体。一方面由等离子体中的部分活性基团与被刻蚀材料表面发生化学反应,另一方面由于射频自偏压作用,等离子体中的正离子对被刻蚀材料,表面进行物理轰击,盐城SPM,从而以物理化学相结合的方法达到材料表面刻蚀的目的。

清洗槽(也叫酸槽/化学槽),主要有HF,H2SO4,H2O2,SPM腐蚀机,HCL等酸碱液体按一定比例配置,目的是为了去除杂质,去离子,去原子,后还有DI清洗。IPA是,就是工业酒精,是用来clean机台或parts的,是为了减少partical的。





通过加速的 Ar 离子进行物理刻蚀或铣削。对于硅的化合物也可以通过反应离子束刻蚀的方式提高刻蚀速率和深宽比。通常情况下,样品表面采用厚胶作掩模,刻蚀期间高能离子流将会对基片和光刻胶过加热,除非找到合适的方法移除热量,光刻胶将变得昂变得很难以去除。支持百级超净间使用。

学清洗槽(也叫酸槽/化学槽),主要有HF,H2SO4,H2O2,HCL等酸碱液体按一定比例配置,目的是为了去除杂质,去离子,去原子,后还有DI清洗。IPA是,就是工业酒精,是用来clean机台或parts的,是为了减少partical的。





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