工业纯水设备中EDI工艺的优势
连续产出超纯水，出水水质具有的稳定度，以高产率产生超纯水(产率可以高达95%)；
模块化生产，实现设备的全自动控制；
不需要酸碱再生，不会因为再生而停机；
不需要酸碱稀释运输设施和酸碱储备；
设备结构紧凑，体积小，占地面积少；
使用，纯水设备，避免人工接触酸碱；
节省了反冲和清洗用水，无再生污水，不须污水处理设备；
安装简单方便，安装费用低廉;减低设备的运行成本及维修成本；
设备运行操作简单，劳动强度较低；
EDI超纯水系统出水电导率受哪些因素影响？
EDI超纯水系统出水电导率受哪些因素影响？在不同的进水流量下，EDI超纯水系统出水电导率会随着电流的变化而变化。这是因为在电路中，淡室中的溶液相和树脂相是并联的。离子输送主要是通过树脂相进行的，在一定的淡水流量范围内，流量对树脂的影响较小，因此EDI膜堆的总电流变化不大，而水的电导率变化也很小，因此进水流量对水质的影响相对较小。工作电压对出水电导率影响很大。如果工作电压太小，在纯水排出之前，不足以将离子从淡室中移除。电渗析工艺和树脂电再生工艺相对较弱。此时，主要进行离子交换过程。随着工作电压的升高，半导体纯水设备，水的离解度增大，树脂再生效果好，淡水电导率降低。
半导体材料是在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电等领域进行应用的。半导体材料在应用中会需要一定量的超纯水，可用于清洗，该超纯水电阻率达到了18兆欧，不含导电介质和金属离子，可满足作为半导体清洗用水的需求。采用两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺，处理后的水质可达到18MΩ.CM以上，符合半导体用水标准。设备采用如今大热的膜技术，电子纯水设备，可有效去除水中的导电介质，以及水中不离解的胶体物质、气体及有机物，设备的出水纯度高，无病毒与***，不含任何悬浮物、无化学污染，产出的可谓是高品的超纯水了
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