EDI超纯水系统出水电导率受哪些因素影响？在不同的进水流量下，EDI超纯水系统出水电导率会随着电流的变化而变化。这是因为在电路中，淡室中的溶液相和树脂相是并联的。离子输送主要是通过树脂相进行的，在一定的淡水流量范围内，流量对树脂的影响较小，因此EDI膜堆的总电流变化不大，半导体纯水设备安装，而水的电导率变化也很小，因此进水流量对水质的影响相对较小。工作电压对出水电导率影响很大。如果工作电压太小，在纯水排出之前，不足以将离子从淡室中移除。电渗析工艺和树脂电再生工艺相对较弱。此时，主要进行离子交换过程。随着工作电压的升高，水的离解度增大，树脂再生效果好，天津半导体纯水设备，淡水电导率降低。
EDI超纯水设备工作原理
半导体材料是在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电等领域进行应用的。半导体材料在应用中会需要一定量的超纯水，可用于清洗，半导体纯水设备报价，该超纯水电阻率达到了18兆欧，不含导电介质和金属离子，可满足作为半导体清洗用水的需求。采用两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺，处理后的水质可达到18MΩ.CM以上，符合半导体用水标准。设备采用如今大热的膜技术，可有效去除水中的导电介质，以及水中不离解的胶体物质、气体及有机物，设备的出水纯度高，无病毒与***，不含任何悬浮物、无化学污染，产出的可谓是高品的超纯水了
超纯水设备技术应用 出水符合电镀行业用水需要电镀的本质是利用电解原理，让金属或其他材料的产品表面附有金属膜，使产品具有、耐腐蚀、耐磨、美观等功能。因此电镀行业对水质要求更为严格，稍有疏忽，后果就是影响产品美观，降低电镀工艺性能，因此PCB电镀涂装工业经常使用超纯水设备，以满足清洁用水的需要。 传统的超纯水制取工艺是采用阴阳树脂交换设备，其缺点是树脂使用一段时间后要经常再生。随着膜分离技术的不断成熟，采用反渗透工艺，或在反渗透后通过EDI和抛光混床工艺，以制得超纯水，其出水电导率可达18.2MΩ，符合电镀行业的用水需要。
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