EDI超纯水设备运行过程中电阻率下降的原因与进水水质、压力、流量、电压和进水水质的污染有关，包括以下几点： 1、前置反渗透设备出水不合格 如果原水含盐量较高，建议采用双级反渗透设备设备进行预脱盐，其电导率应保持在1～3μS/cm。若进水CO2含量高，建议使用脱气膜或脱气塔去除CO2。如果pH值偏离中性太大，调整pH值，使EDI进水pH值为7～8。 2、当前的EDI控制系统存在问题 工作电流增大，产水水质不断改善。然而，如果电流在增加到顶点后增加，由于水电离产生过量的H+和OH-离子，除了再生树脂外，大量剩余离子作为载流离子导电。同时，由于大量载流离子在运移过程中积累和堵塞，甚至反扩散，导致产水水质下降。
设备长期停运时如何***。
设备长期停运时如何***。
答：短期停机(不超过三天)，每天必须用保安过滤器冲洗30分钟并保证RO组件内充满过滤水。RO装置如长期停机(大于三天)，应采用1%甲醛溶液，充满RO组件，然后关闭所有阀门，半导体纯水设备，且每月检查一次。
超纯水抛光树脂应该如何保管?
答：防冻，超纯水抛光树脂的保存环境需在周围环境>40℃情况下，如果温度低于5℃，电子超纯水设备，为防止树脂结冰，可以把树脂放在水溶液中。
防干，由于超纯水抛光树脂在使用或储运中水份消失，在发生此种情况时，切不可把树脂直接投落水中，而是先将其浸泡于饱和水中，使其缓慢膨胀不致破碎
在半导体生产中，超纯水主要用于清洗硅片。少量水用于配制药剂、硅片氧化的蒸汽源、某些设备的冷却水、电镀溶液的配制。集成电路产品的质量与产量密切相关。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，***(Au、Ag、Cu等)会降低PN结的耐压力，III族元素 (B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，天津纯水设备，V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化。***高温炭化水中的磷(约为灰分的20%~50%)会使p型硅片局部变为N型硅片，导致器件性能下降。水中的颗粒，包括***，如果附着在硅片表面，会导致短路或性能恶化。可见，超纯水在半导体行业的必要性。
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