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10.4寸M104GNX1 R1 分辨率1024*768 LVDS6/8BIT接口工业屏
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TFT 生产技术为的部分是光刻工艺,它既是决定产品品质的重要环节,也是影响产品成本的关键部分。而在光刻工艺中,受人们关注的就是掩模版,其质量在很大程度上决定了TFT- LCD 的品质,而其使用数量的减少可有效削减设备***、缩短生产周期。随着 TFT 结构的变化和生产工艺的改进,其制造过程中使用掩模版的数量也在相应地减少。由此可见,TFT 生产工艺从早期的 8掩模版或 7掩模版光刻工艺发展到目前普遍采用的5掩模版或 4掩模版光刻工艺,大大地缩减了 TFT- LCD 生产周期和生产成本。
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液晶显示器,依驱动方式来分类可分为静态驱动(Static)、单纯矩阵驱动(Simple Matrix)以及主动矩阵驱动(Active Matrix)三种。其中,被动矩阵型又可分为扭转式向列型(Twisted Nematic;TN)、超扭转式向列型(Super Twisted Nematic;STN)及其它被动矩阵驱动液晶显示器;而主动矩阵型大致可区分为薄膜式晶体管型(Thin Film Transistor;TFT)及二端子二极管型(Metal/Insulator/Metal;MIM)二种方式。
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