干法电镀：
干法电镀包括真空电镀、气相电镀（气相沉积），以及使用熔融金属进行的熔融电镀。
真空电镀（真空电镀）：
真空电镀是一种在高真空中加热和蒸发金属或化合物的方法，通过将蒸发的原子或分子应用于要电镀的物体，佛山真空电镀，在表面上形成金属或化合物的薄膜。在这里，薄膜是指厚度小于1μ的薄膜。
工业应用包括装饰、包装纸等，将铝沉积在金属光泽上，作为电气应用，用于电阻和电容器。
PVD真空电镀前工件的预处理，真空电镀，应根据工件的材料、表面条件和表面处理要求进行预处理。比如，去除油污、锈蚀或水垢，清洁表面，确保涂层与基材表面具有良好的结合力； 还必须进行机械抛光、电化学抛光、喷砂处理，东莞真空电镀厂，以改善工件的表面状况，确保金属涂层满足亮度和粗糙度的质量要求。PVD真空电镀的电镀前处理是电镀过程中的重要环节之一。真空电镀
电镀生产的滚镀过程中需注意的事项：及时调整主盐浓度。滚镀溶液中主盐消耗较快，这主要是阳极面积常常不足，工件出槽时损耗较多等原因引起的。主盐含量过低时会引起电流效率下降，镀层难以镀厚，广州真空电镀，为此需根据化验分析数据及时予以调整。滚镀件预处理的难度大。滚镀件只能在篮筐里预处理，难免有重叠，故难以完全除尽污物。
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