纯净水和无法渗透过的浓缩水严格的分开。其优点是：
1、组成设备所用的零件性能良好，质量有所保证，可以有较长的使用寿命。
2、能够根据需要增加反渗透膜，从而使得水处理的容量变大。
3、当设备出现问题的时候，其所配备的“自我保护系统”能够使得设备及时地停止运作。
4、超纯水设备采用了复合膜，这种反渗透膜能够更有效地去除水中的杂质、污染物等***物质。
5、超纯水设备设计合理，相对于其他设备占地面积小。
6、复合膜的冲洗维护十分方便，膜的抗污染性能良好，可有效降低膜的清洗频率。
EDI超纯水技术受欢迎的原因是什么？
EDI超纯水技术受欢迎的原因是什么？与传统混床技术相比，EDI超纯水技术工艺摒弃伴生废酸、废碱污染的传统离子交换技术，具有无化学污染、连续再生、启动操作简单、模块更换方便、产水纯度高、回收率高、占地面积小、微生物污染风险低等优点。这对保护环境和节约能源非常有益。同时，EDI超纯水技术树脂消耗量仅为传统混床的5%，具有较高的成本效益。由于溶解在水中的大多数气体(如二氧化碳)都呈弱电性，半导体纯水设备价格，EDI可以有效地去除它们。EDI超纯水技术结合了电渗析技术和离子交换技术。通过阴阳离子交换膜的选择性渗透和离子交换树脂的交换
在半导体生产中，半导体纯水设备厂家，超纯水主要用于清洗硅片。少量水用于配制药剂、硅片氧化的蒸汽源、某些设备的冷却水、电镀溶液的配制。集成电路产品的质量与产量密切相关。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，半导体纯水设备，***(Au、Ag、Cu等)会降低PN结的耐压力，III族元素 (B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化。***高温炭化水中的磷(约为灰分的20%~50%)会使p型硅片局部变为N型硅片，半导体纯水设备安装，导致器件性能下降。水中的颗粒，包括***，如果附着在硅片表面，会导致短路或性能恶化。可见，超纯水在半导体行业的必要性。
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